头孢噻肟钠研磨分散机

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头孢噻肟钠适应症

适用于敏感细菌所致的肺炎及其他下呼吸道感染、尿路感染、脑膜炎、败血症、腹腔感染、盆腔感染、皮肤软组织感染、生殖道感染、骨和关节感染等。头孢噻肟可以作为小儿脑膜炎的选用药物。

用法用量

一日2～6g，分2～3次静脉注射或静脉滴注；严重感染者每6～8小时2～3g，一日zui高剂量不超过12g。治疗无并发症的肺炎链球菌肺炎或急性尿路感染，每12小时1g。
新生儿日龄小于等于7日者每12小时50mg/kg，出生大于7日者，每8小时50mg/kg。治疗脑膜炎患者剂量可增至每6小时75mg/kg，均以静脉给药。
严重肾功能减退病人应用本品时须适当减量。血清肌酐值超过424μmol/L(4.8mg)或肌酐清除率低于20ml/分时，本品的维持量应减半；血清肌酐超过751μmol/L(8.5mg)时，维持量为正常量的1/4。需血液透析者一日0.5～2g。但在透析后应加用1次剂量。

     CIK头孢噻肟钠研磨分散机，转速高达14000rpm，剪切力强，是国内设备的4-5倍。研磨分散机是胶体磨和分散机的一体化设备，磨头结构、分散盘的结构，也更适合细胞破碎、细胞破壁。采用博格曼双端面机械密封，并配有机封冷却系统，可供工业化生产24小时运行。分体式结构，通过皮带提速，可根据调节转速，满足不同细胞破碎要求，合适的转速，合理的剪切力不易导致产品变性失活。

【分散机的结构及特点】

研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。

*级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。

       第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。

       NKD2000系列研磨分散机的特点：

①   线速度很高，剪切间隙非常小，当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨

②   定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。

③   定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

④   在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。

⑤   高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。

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