头孢塞污钠研磨分散机

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{别名}

*、氨噻肟*、*、西孢克拉瑞、 *、塞福隆；*；凯帝隆； 氨噻肟头孢 菌素钠;*;* 、先锋龙
【外文名】Cefotaxime Sodium , Claforan, CTX,Ceforan, HR-756, Zariviz 
【作用与用途】 
本品第三代半合成*，抗菌谱比*广，对革兰阴性菌的作用更强，但对阳性球菌不如第代与第二代*对绿脓杆菌与厌氧菌仅有低度抗菌作用.抗菌谱包括嗜血性流感杆菌、肠杆菌、沙门杆菌克雷白产气杆菌属及奇异变形杆菌、奈瑟菌属、葡萄球菌、肺炎球菌、链球菌等。临床上主要用于各敏感菌的感染，如呼吸道、五官、腹腔、胆道、脑膜炎、淋病、泌尿系统感染、皮肤软组织感染、创伤及术后感染、败血症等。

【用法用量】
1.肌注或静注，大人，中等度感染，1g/次，1次/12小时；严重感染8g～12g/日，分3～4次；儿童每日100mg～150mg/kg，分2～4次；新生儿每日50mg/kg，分2～4次。本品亦可供静滴，宜用1g～2g溶于生理盐水或*中稀释，在20～60分钟内滴注完毕。 
2.肌内注射:大人一次0.5～1g，每日3～4次。静脉滴注:(药典规定静脉滴注一日2～3g)临床常用每次1～2g，每日3～4次，必要时每4小时一次。 
小儿:每日50～100mg/kg(体重)，分3～4次给药。 
头孢塞污钠研磨分散机NKD2000系列研磨分散设备是shsina（上海）公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品，该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装，我们将三级变跟为一级，然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种乳化头供客户选择）
NKD2000系列的特点：

①   线速度很高，剪切间隙非常小，当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨

②   定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。

③   定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

④   在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。

• 高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。

技术参数