上海归真仪器设备有限公司(ACITEK INSTRUMENTS)
是水气分析仪器设备专业服务公司,致力于成为该领域的技术*者。
ACITEK的产品
我们一级代理瑞士HAMILTON、法国AWA、美国OAKTON、美国Cole-Parmer、美国ORION、美国EUTECH、美国accumet、美国ASI、意大利B&C、德国Knick、AZ、A&D、美国GLI、美国HACH等全系列产品。尤其在在线监控领域,我们具有一般经销商所不具备的价格以及供货周期优势。我们还可以为客户提供具有自主知识产权的水气分析产品,量身定制,较大程度符合您对产品的技术需求.
我们提供的实验室、现场水质分析仪器和连续在线仪器,可以为您显示和控制PH、电导率、总固体溶解度(TDS)、温度、离子浓度、氧化还原电位(ORP)、溶解氧(DO)、COD、TOC、BOD、氨氮、水中油PAH、酚BTEX、叶绿素A、罗丹明、硝酸根、磷酸根、色度、悬浮物、余氯、浊度、水硬度以及在线烟气分析(NO、NO2、NH3、SO2、H2S……)等等技术指标。我们还提供与以上测量相关的电极,尤其是用在发酵以及制药行业的在线耐高温的PH凝胶电极和DO电极。
ACITEK的服务
我们拥有*活力的技术服务团队,和一般经销商相比,我们能够为客户提供*的技术支持。不管是售前的技术咨询、对照选型,还是售后的安装指导、技术支持、保修维修以及配件支持,我们都将尽心为客户服务。
ACITEK坚信:专业与诚信是企业发展的基础。我们将会是您在水气分析领域Z佳的合作伙伴!
ACITEK的产品;ACITEK的服务;
工业:应用于无土栽培,电镀和表面处理,食品工程中水测试(例如HACCP),印刷,化工,制造业和水/治水处理
ORP应用:适用ORP电极监测电镀操作,臭氧系统效率和其他氧化还原电位应用
经济型台式pH/ORP计 产品信息
技术参数:
● 测量参数:pH/mV/℃
● 特点:双排显示/标准台式
● pH 量程:0.00到14.00pH
● 分辨率:0.01pH
● 精度:±0.01pH
● 校正:多达3点校正
● 温度 量程:0.0到100.0℃
● 分辩率:0.1℃
● 精度:±0.3℃
● mV 量程:±1999mV
● 分辨率:0.1mV(±199.9mV以内);
1mV(±200mV以外)
● 精度:±0.2mV(±199.9mV以内);
±2mV(±200mV以外)
● 温度补偿:自动/手动(0到100℃)
● 记忆:50组数据
● 日期时间记忆(GLP):否
● 操作温度:0到50℃
● RS232C输出:否
● 显示:双排显示
● 记录仪信号输出可以连接图表记录仪或其它记录设备进行数据分析
● *记忆,电极斜率/零点偏差诊断
● 联体电极支架放置电极,便于使用,节约空间
● 能量需求:9V稳压电源,200mA(120/220VAC)
● 尺寸(cm)/重量(kg):23(L)*18(W)*6(H)/0.75kg(单机)
40(L)*26(W)*9(H)/1.4kg(装箱)
● 应用:
通用:应用于各种实验室化学试剂和水质测量,适用于多说ASTM和EPA测量步骤,化工和相关领域LR&D和QC应用
工业:应用于无土栽培,电镀和表面处理,食品工程中水测试(例如HACCP),印刷,化工,制造业和水/治水处理
ORP应用:适用ORP电极监测电镀操作,臭氧系统效率和其他氧化还原电位应用
● 测量参数:pH/mV/℃
● 特点:双排显示/标准台式
● pH 量程:0.00到14.00pH
● 分辨率:0.01pH
● 精度:±0.01pH
● 校正:多达3点校正
● 温度 量程:0.0到100.0℃
● 分辩率:0.1℃
● 精度:±0.3℃
● mV 量程:±1999mV
● 分辨率:0.1mV(±199.9mV以内);
1mV(±200mV以外)
● 精度:±0.2mV(±199.9mV以内);
±2mV(±200mV以外)
● 温度补偿:自动/手动(0到100℃)
● 记忆:50组数据
● 日期时间记忆(GLP):否
● 操作温度:0到50℃
● RS232C输出:否
● 显示:双排显示
● 记录仪信号输出可以连接图表记录仪或其它记录设备进行数据分析
● *记忆,电极斜率/零点偏差诊断
● 联体电极支架放置电极,便于使用,节约空间
● 能量需求:9V稳压电源,200mA(120/220VAC)
● 尺寸(cm)/重量(kg):23(L)*18(W)*6(H)/0.75kg(单机)
40(L)*26(W)*9(H)/1.4kg(装箱)
● 应用:
通用:应用于各种实验室化学试剂和水质测量,适用于多说ASTM和EPA测量步骤,化工和相关领域LR&D和QC应用
工业:应用于无土栽培,电镀和表面处理,食品工程中水测试(例如HACCP),印刷,化工,制造业和水/治水处理
ORP应用:适用ORP电极监测电镀操作,臭氧系统效率和其他氧化还原电位应用