科研类真空均质机

  科研类真空均质机，用于实验室研发用，模拟工业化生产，为工业化生产提供可靠的试验数据。
  
  科研类真空均质机可以有效的消除乳化过程中泡沫，可以是物料乳化的更*；真空均质机也可以用于一些不易于空气接触的物料（易燃易爆），规避风险，提高生产的安全性。
                 
 科研类真空均质机是由真空系统和均质机组成，一个真空罐体和管线式均质机相结合，真空罐内可以根据物料的粘稠度来配置相应的搅拌机（普通搅拌或者刮壁搅拌），小型真空罐有进料口、观察窗、放空阀等。小型管线式均质机为CR2000/4高剪切均质机，是一款小试和中试的乳化设备，CR2000/4设备转速高达9000rpm，三级工作头，采用德国博格曼双端面机械密封，乳化效果。

影响分散乳化结果的因素有以下几点

1 乳化头的形式（批次式和连续式）（连续式比批次好）

2 乳化头的剪切速率 （越大，效果越好）

3 乳化头的齿形结构（分为初齿，中齿，细齿，超细齿，约细齿效果越好）

4  物料在分散墙体的停留时间，乳化分散时间（可以看作同等的电机，流量越小，效果越好）

5 循环次数（越多，效果越好，到设备的期限，就不能再好）

线速度的计算

剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。

– 剪切速率 (s-1) =           v  速率 (m/s)   
                         g 定-转子 间距 (m)

由上可知，剪切速率取决于以下因素：

– 转子的线速率

– 在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。 
CIK 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm 

速率V=  3.14 X  D（转子直径）X 转速 RPM  /   60
                        

 科研类真空均质机，小型均质机，上海切可专业从事乳化设备的研发与生产，小型均质机在全国各*高校以及研究所都有着广泛的应用。

   科研类真空均质机信息来源于www.ciksh。。ｃｏｍ