智能制造网>产品库>通用设备>泵>其他泵浦>>进口电子束蒸镀设备,e-beam 蒸发系统

进口电子束蒸镀设备,e-beam 蒸发系统

参考价	¥ 2000000
订货量	≥1台

具体成交价以合同协议为准

公司名称伯东企业（上海）有限公司
品牌其他品牌
型号
所在地上海市
厂商性质代理商
更新时间2023/4/17 17:15:14
访问次数1324

产品标签:

进口电子束蒸镀设备电子束蒸发系统蒸发镀膜机 e-beam 真空镀膜机

在线询价收藏产品进入展商展台

联系我们时请说明是智能制造网上看到的信息，谢谢!

索取相关资料

公司介绍主营产品

~伯东公司成立于1953 年，范围内有一千七百名员工。伯东企业(上海)有限公司主要从事半导体设备、电子零部件加工、销售及相关服务工作，集团年营业额约为100亿人民币。伯东公司在国内主要城市：北京、苏州、广州、深圳、成都及厦门设有营业据点。
上海伯东真空产品事业部秉承为广大中国客户提供*的真空产品、推动中国真空工艺发展、承担企业社会责任为经营理念，已累计为超过10,000家企业提供真空服务，覆盖工业、半导体、镀膜、科研和分析行业。

上海伯东代理品牌包含：德国Pfeiffer 全系列真空产品、美国 KRI 离子源、美国Brooks Polycold 制冷机，美国HVA 真空阀门，美国 inTEST(Temptronic)高速温度循环测试机，离子蚀刻机，真空镀膜系统及配套真空零配件等。

上海伯东作为真空品牌**代理商，全权负责在中国地区的销售和维修服务，* 使用原厂进口零部件以及国外受训维修工程师；拥有*的拆解，维修，校正能力并提供24小时在线服务。

展开显示更多内容

原子力显微镜,高低温冲击试验箱，振动样品磁强计,霍尔效应测量系统,冷冻机

产品简介在线询价

上海伯东代理 SYSKEY 中国台湾矽碁科技电子束蒸镀设备是一种实用且高度可靠的系统, 蒸镀系统可针对量产使用单一坩埚也可以有多个坩埚来达到产品多层膜结构. 在基板乘载上针对半导体研究和大型设备设计, 单片和多片公自转的设计可以控制蒸发速率, 薄膜厚度和均匀度小于 +/- 3％.进口电子束蒸镀设备,e-beam 蒸发系统

进口电子束蒸镀设备,e-beam 蒸发系统产品信息

因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准

电子束蒸镀设备 E-beam Evaporation System
电子束蒸发与热蒸发对比, 能够在非常高的温度下熔化材料, 如钨, 石墨 ... 等等. 结合石英震荡片的反馈信号, 可轻松控制蒸发速率, 以调节电子束电流并蒸发更多材料而不会破坏真空. 因此, 电子束蒸发系统用于薄膜制程领域, 包括半导体, 光学, 太阳能电池板, 玻璃和建筑玻璃, 因此它们具有所需的导电, 反射, 透射和电子等特性.

上海伯东代理 SYSKEY 中国台湾矽碁科技电子束蒸镀设备是一种实用且高度可靠的系统, 蒸镀系统可针对量产使用单一坩埚也可以有多个坩埚来达到产品多层膜结构. 在基板乘载上针对半导体研究和大型设备设计, 单片和多片公自转的设计可以控制蒸发速率, 薄膜厚度和均匀度小于 +/- 3％. 腔体的极限真空度约为 10-8 Torr. 为了获得尽可能大的制程灵活性, 可以结合美国 KRi 离子源进行离子辅助沉积或者预清洁等功能.
SYSKEY 电子束蒸发系统
上海伯东电子束蒸镀设备配置和优点
客制化的基板尺寸, 直径可达 12寸晶圆
单载片或多载片 (2” x 32个，4” x 16个，6” x 6个，8” x 4个）
薄膜均匀度小于 ±3％
具有水冷坩埚的多组坩锅旋转电子束源 (1/2/4/6坩埚）
自动镀膜系统
具有顺序操作或共沉积的多个电子束源
基板具有冷却 (液态氮温度低至-70°C) 或加热 (温度800°C) 等功能

电子束蒸镀设备基本参数

系统	Real 超高真空	超高真空	高真空
极限真空	5X10-10 Torr	5X10-9 Torr	3X10-7 Torr
腔室密封	全部 CF	一些密封圈	全部密封圈
Load-lock	标准	标准	可选
E-beam 源	4-6 坩埚 7-25 cc	4-6 坩埚 7-25 cc	4-6 坩埚 7-25 cc
基板	4-8 英寸加热 / 水冷 / 液氮冷却	4-8 英寸加热 / 水冷 / 液氮冷却	4-8 英寸加热 / 水冷 / 液氮冷却
真空泵	低温泵	低温泵 / 分子泵	低温泵 / 分子泵
监控	真空规和 QCM	真空规和 QCM	真空规和 QCM
工艺控制	速率控制	速率控制	速率控制
供气	氮气	氮气	氮气

SYSKEY 电子束蒸发镀膜系统 E-Beam

腔体
由 304不锈钢所制成, 通过外部焊接 304不锈钢管线对腔体进行水冷
宽大的前开式门, 并有两个窗口和窗口遮版用于观察基材和电子束源
腔体的极限真空度约为 10-8 Torr

选件
可以与传送腔, 机械手臂和手套箱整合在一起
结合美国 KRi 离子源, 溅镀枪, 热蒸发源, 等离子清洁...

应用领域
光学材料研究 (LED / Laser Diode)
光电元件
半导体元件

对传统热蒸发技术难以实现的材料蒸发, 可采用电子束蒸发的方式来实现. 不同于传统的辐射加热和电阻丝加热, 高能电子束轰击可实现超过 3000℃ 的局域高温, 这使得绝大部分常用材料都可以被蒸发出来, 甚至是高熔点的材料, 例如, Pt, W, Mo, Ta 以及一些氧化物, 陶瓷材料等. 上海伯东代理的电子束蒸发源可承载 1-6种不同的材料, 实现多层膜工艺; 蒸发源本身防污染设计, 使得不同材料之间的交叉污染降到尽可能低.

若您需要进一步的了解电子束蒸镀设备详细信息或讨论, 请联络上海伯东叶女士

现部分品牌诚招合作代理商, 有意向者欢迎联络上海伯东叶女士
上海伯东版权所有, 翻拷必究！