上海新阳半导体收到ASML-1400光刻机将用于研发193nm ArF光刻胶

2021-03-09 16:42:31来源：TechWeb 关键词：半导体光刻机阅读量：21945

导读：经各方积极协商、运作，ASML-1400光刻机设备于今日已进入合作方北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司场地，后续将进行安装调试等相关工作。

　　3月9日消息，近日上海新阳半导体材料股份有限公司发布公告，披露了关于购买ASML-1400光刻机的新进展。

　　上海新阳半导体材料股份有限公司(以下简称“公司”)自立项开发193nm ArF干法光刻胶的研发及产业化项目以来，安排购买了ASML-1400光刻机等核心设备，并于2020年12月14日在《关于公司申请向特定对象发行股票的审核问询函的回复》中披露，该光刻机将于2020年底前运抵国内。后由于公司与光刻机供应商、北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司(以下简称“合作方”)沟通协调设备运输与安装等细节，致使设备没能在规定时间内运达，但与合作方就具体合作细节签署了《合作框架协议》，并发布了《关于ASML-1400光刻机进展暨签订<合作框架协议>的公告》，预计该光刻机将于2021年3月底前进入合作方现场，详见公司于2021年1月5日发布的相关公告。

　　现经各方积极协商、运作，该光刻机设备于今日已进入合作方北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司场地，后续将进行安装调试等相关工作。

　　(原标题：上海新阳半导体收到ASML-1400光刻机将用于研发193nm ArF光刻胶)

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