英特尔公布未来制程技术路线图，有望获得业内第一台High-NA EUV光刻机

2021-07-27 15:16:26来源：TechWeb 关键词：制程技术光刻机阅读量：22078

导读：加快高端智能芯片研制，已经成为大势所趋。

　　7月27日，在Inel Accelerated大会上，英特尔首席执行官基辛格(Pat Gelsinger)表示，摩尔定律仍在持续生效。

　　在当天大会上，英特尔公布了未来制程技术路线图，同时介绍了下一代极紫外光刻(EUV)技术的使用计划。根据进展，英特尔有望得获得业内第一台High-NA EUV光刻机。而在客户上，基辛格透露已与AWS签约，该公司将成为第一个使用英特尔代工服务(IFS)封装解决方案的客户。同时，高通也将采用Intel 20A制程工艺技术，这一技术预计将在2024年推出。

　　在发布会上，英特尔公布了未来5年的技术路线图，对芯片的制程工艺进行了新的命名，10纳米Enhanced SuperFin更名为“Intel 7”、Intel 7纳米更名为“Intel 4”、其后是“Intel 3”、下一代将是“Intel 20A”、“Intel 18A”。

　　此外，基辛格表示，预计在今年年底前宣布在欧洲以及美国的进一步工厂布局。“这将是一笔足以支持大型晶圆厂的巨额投资，虽然我们自己已在推进其中的一些投资项目，但同时欢迎美国和欧盟的政策制定者能够以紧迫感采取行动，加快我们和集成电路产业其他公司的项目进展。”

　　(原标题：英特尔公布未来制程技术路线图，有望获得业内第一台High-NA EUV光刻机)

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