超细*研磨分散机,超细*分散设备,*分散机,超细分散机,纳米分散机
纳米*片状结晶,具有典型的纳米片层状结构,在340℃分解而生成氧化镁。不溶于水,溶于酸和铵盐溶液.该产品具有纯度高,粒径小,可进行原位包覆改性等优异性能,能更均匀地分散于PA、PP、ABS、PVC等橡胶、塑料产品中,广泛应用于橡塑弹性体,高档电缆料,家用电器等产品中。纳米*在几乎不影响使用强度的情况下显著提高材料的阻燃、抑烟、防滴等性能,还可根据客户需要,在纳米*生成同时采用适当的原位改性方法,为阻燃*。
超细*的分散:超细*分散到水中或者溶剂当中,容易出现抱团的现象,导致物料粒径变大,分散效果不佳,产品改性不充分。
如果使用普通的分散设备,很难将超细*分散均匀,会出现团聚的现象,团聚体难以打开,而如果采用NKD研发的分散设备,研磨分散机的话,先研磨后分散机,解决团聚问题,可达超细*还原至纳米级。
NKD2000超细*研磨分散机,是由胶体磨+分散机结合而成的设备,主要是为了解决纳米级物料的分散,如:超细*、纳米*、纳米氧化铝、石墨烯、碳纳米管等纳米级物料的分散。
NKD2000系列研磨分散设备是NKD(上海)公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品,该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装,我们将三级变跟为一级,然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换(我们提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五种乳化头供客户选择)
NKD2000系列研磨分散机的特点:
1、线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨
2、定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。
3、定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离
4、在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。
5、高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。
超细*研磨分散机设备型号
型号 | 流量 L/H | 转速 rpm | 线速度 m/s | 功率 kw | 入/出口连接 DN |
NKD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
NKD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
NKD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
NKD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
NKD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
NKD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |