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PL-DW30 中型立式机柜真空等离子清洗机30L

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更新时间：2024-09-12 09:21:06浏览次数：275次

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深圳市三和波达机电设备有限公司

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产品简介

简介：真空辉光等离子清洗机金属腔体多层电极板等离子清洗装置 13.56MHz射频等离子清洗器 PCB,LED批量活化处理等离子清洗仪

详细介绍

型号	PL-DW30	PL-DW60				PL-DW80
腔体材质	316不锈钢表面处理
腔体尺寸	300 ×335×300mm L×W×H	350 ×430×400mm L×W×H				400 ×450×450mm L×W×H
腔体容量	30L	60L				80L
外形尺寸	700×650×1200mm L×W×H	750×700×1250mm L×W×H				800 ×750×1400mm L×W×H
电源频率	13.56MHz（自动匹配一体）
电源功率	0-500W（连续可调）	0-600W（可调）		0-800W（连续可调）
流量计	超精密2路电子流量计
真空计	高真空规管测量并实时显示
控制过程	全自动控制与手动（PLC人机界面）
清洗时间	0- 99999S 可调
真空度	1-30pa
腔体温度	＜30℃
供电电压	380V
真空泵	BSV30（抽速10L/S）		BSV40（抽速13L/S）		BSV60（抽速20L/S）

PL-DW30真空等离子清洗机
，它是利用能量转换技术，在一定真空负压的状态下，以电能将气体转化为活性的气体等离子体，气体等离子体能轻柔冲刷固体样品表面，引起分子结构的改变，从而达到对样品表面有机污染物进行超清洗，在极短时间内有机污染物就被外接真空泵抽走，其清洗能力可以达到分子级。在一定条件下还能使样品表面特性发生改变。因采用气体作为清洗处理的介质，所以能有效避免样品的再次污染。等离子清洗机既能加强样品的粘附性、相容性和浸润性，也能对样品进行消毒和杀菌。等离子清洗机现已广泛应用于光学、光电子学、电子学、材料科学、高分子、生物医学、微观流体学等领域。
国产等离子清洗机是在国外等离子清洗机价格贵，难以推广等缺点的基础上，吸取了现有国内外等离子清洗机的优点，结合国内用户的使用需求，采用科技手段开发出的新型系列等离子清洗机。该产品除拥有其它等离子清洗器的优点外，更具有性能稳定、性价比高、清洗效率高、操作简便、使用成本极低、易于维护的优点。产品能适应不同用户对设备的特殊要求。清洗舱的材料有耐热玻璃和不锈钢可选择，不锈钢类清洗舱有圆形和方形可选择。。
功能：
对金属、玻璃、硅片、陶瓷、塑料、聚合物表面的有机污染物（如石蜡、油污、脱膜剂、蛋白等）进行超清洗。
改变某些材料表面的性能。
使玻璃、塑料、陶瓷等材料表面活化，加强这些材料的粘附性、相容性和浸润性。
清除金属材料表面的氧化层。
对被清洗物进行消毒、杀菌。
优点
具有性能稳定、性价比高、操作简便、使用成本极低、易于维护的特点。
对各种几何形状、表面粗糙程度各异的金属、陶瓷、玻璃、硅片、塑料等物件表面进行超清洗和改性。
地清除样品表面的有机污染物。
定时处理、快速处理、清洗效率高。
绿色环保、不使用化学溶剂、对样品和环境无二次污染。
在常温条件下进行超清洗，对样品非破坏性处理。
应用领域
光学器件、电子元件、半导体元件、激光器件、镀膜基片、终端安装等的超清洗。
清洗光学镜片、电子显微镜片等多种镜片和载片。
移除光学元件、半导体元件等表面的光阻物质，去除金属材料表面的氧化物。
清洗半导体元件、印刷线路板、ATR元件、人工晶体、天然晶体和宝石。
清洗生物芯片、微流控芯片、沉积凝胶的基片。
高分子材料表面的修饰。
封装领域中的清洗和改性，增强其粘附性，适用于直接封装及粘和。
改善粘接光学元件、光纤、生物医学材料、宇航材料等所用胶水的粘和力。
涂覆镀膜领域中对玻璃、塑料、陶瓷、高聚合物等材料表面的改性，使其活化，增强表面粘附性、浸润性、相容性，显著提高涂覆镀膜质量。
牙科领域中对钛制牙移植物和硅酮压模材料表面的预处理，增强其浸润性和相容性。
领域中修复学上移植物和生物材料表面的预处理，增强其浸润性、粘附性和相容性。对的消毒和杀菌。