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CMD2000供应粉底液研磨分散机
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  • 上海市 所在地

访问次数:387更新时间:2019-07-20 10:38:20

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产品简介
粉底液研磨分散机,粉底液分散机,粉底液胶体磨 采用了二级处理结构,*级采用了高剪切胶体磨的磨头模块,第二季采用了高剪切分散乳化机的分散乳化模块,第二级模块可根据客户对物料的处理要求开配定转子,定转子可配2P、2G、4M、6F、8SF,且定转子精密度都达到了*水平。
产品介绍

粉底液研磨分散机,粉底液胶体磨,粉底液研磨设备,乳液研磨机,化妆品研磨设备,SHSINA研磨分散机

 
   粉底液 主要作用是均匀肤色,调整肌肤颜色,让肌肤看起来更自然均匀。其次,粉底液也具有一定的遮力。特别是对于细纹和色斑,粉底液将会很有效的遮盖类似瑕疵,让肌肤看起来更健康自然.要想得到高品质的粉底液,就必须充分细化粉底液的粒径。
                                  
【粉底液研磨分散机的概述】
     粉底液研磨分散机,粉底液分散机,粉底液胶体磨 采用了二级处理结构,*级采用了高剪切胶体磨的磨头模块,第二季采用了高剪切分散乳化机的分散乳化模块,第二级模块可根据客户对物料的处理要求开配定转子,定转子可配2P、2G、4M、6F、8SF,且定转子精密度都达到了水平。


  上海新浪轻工机械设备SHSINA管线式高剪切研磨分散机是由SHSINA研发工程师于2013年新研发的一款用于物料精细研磨,分散,乳化,均质的高精度设备,高剪切研磨分散机结合了SHSINA高剪切胶体磨与SHSINA高剪切分散均质乳化机的高速研磨,分散,乳化,均质等功能,设备转速zui高可达14000rpm,是目前国产设备转速的4-5倍。


  管线式高剪切研磨分散机是 SHSINA(上海)公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品,该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装,我们 将三级变跟为一级,然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。磨头下面的胶体磨可根据物 料要求进行更换(我们提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五种乳化头供客户选择)。


粉底液研磨分散机,粉底液胶体磨,粉底液研磨设备,乳液研磨机,化妆品研磨设备,SHSINA研磨分散机 
【粉底液研磨分散机的工作原理】 
   粉底液研磨分散机是由电动机通过皮带传动带动转齿(或称为转子)与相配的定齿(或称为定子)作相对的高速旋转,被加工物料通过本身的重量或外 部压力(可由泵产生)加压产生向下的螺旋冲击力,透过胶体磨定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有 效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。 

研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。

    *级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。


    第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。

【粉底液研磨分散机的特点】   
   CMD2000系列的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精 细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和 结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

  粉底液研磨分散机,粉底液胶体磨,粉底液研磨设备,乳液研磨机,化妆品研磨设备,SHSINA研磨分散机



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