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功能糖胶体磨

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品       牌

厂商性质生产商

所  在  地上海市

更新时间:2019-09-18 20:02:31浏览次数:368次

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功能糖胶体磨,IKN胶体磨CM2000系列特别适合于胶体溶液、超细悬浮液和乳液的生产。除了高转速和灵活可调的定转子间隙外,CM在摩擦状态下工作,也就被称做湿磨。在锥形转子和定子之间有一个宽的入口间隙和窄的出口间隙,在工作中,分散头偏心运转使溶液出现涡流,因此可以达到更好的研磨分散的效果。CM2000整机采用几何机构的研磨定转子,的表面处理和优质材料,可以满足不同行业的多种需求。

功能糖胶体磨,功能性低聚糖胶体磨,低聚糖胶体磨,大豆低聚糖胶体磨,水苏糖胶体磨,棉子糖胶体磨

功能性低聚糖一个重要的来源是从天然原料中提取,如大豆低聚糖,水苏糖,棉子糖等。一般都是将天然原料进行粉碎,破壁,从而提取功能性低聚糖,然后再通过后序处理,得到成品。

如大豆低聚糖,是从大豆蛋白中提取的,首先必须多大豆进行粉碎破壁,提取大豆蛋白的乳清从而作为大豆低聚糖生产的原料。目前大豆低聚糖的粉碎一般采用胶体磨,市场上的胶体磨一般为3000rpm,粉碎效果有限,提取率不高。而结合多家客户案例,采用IKN高剪切胶体磨,粉碎效果好,提取率高。IKN胶体磨转速可达14000rpm,是普通胶体磨的4-5倍,并且磨头结构更加精密。另外IKN胶体磨设备带有夹套,工作时可进行冷却以免温度升高,导致物料变性。公司有样机,可提供免费实验,更多信息请段明明。
 
               

功能糖胶体磨,IKN胶体磨CM2000系列特别适合于胶体溶液、超细悬浮液和乳液的生产。除了高转速和灵活可调的定转子间隙外,CM在摩擦状态下工作,也就被称做湿磨。在锥形转子和定子之间有一个宽的入口间隙和窄的出口间隙,在工作中,分散头偏心运转使溶液出现涡流,因此可以达到更好的研磨分散的效果。CM2000整机采用几何机构的研磨定转子,的表面处理和优质材料,可以满足不同行业的多种需求。


 


IKN胶体磨结构:三道磨碎区:一级为粗磨碎区,二级为细磨碎区,三级为超微磨碎区。

我们的磨头的结构:沟槽的结构式斜齿,每个磨头的沟槽深度不一样,并且斜齿的流道的体积从上往下是从大到下,而他们的斜齿的每个磨头的沟槽深度一样,流道体积是一样大,这样形成了本质的区别。我们可以保证物料从上往下一直在进行研磨,而他们只能在一级磨头到另外一级磨头形成研磨效果。

   
CM2000
系列功能糖胶体磨的特点:

1、定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。

2、齿列的深度:从开始的2.7mm 到末端的0.7mm,范围比较大,范围越大,处理的物料颗粒大小越广。

3、沟槽的结构式斜齿,每个磨头的沟槽深度不一样,并且斜齿的流道的体积从上往下是从大到下。


CM2000系列高剪切胶体磨设备选型表

型号

流量

L/H

输出转速

rpm

线速度

m/s

马达功率

KW

出/入口连接

CM2000/4

700

9,000

23

2.2

DN25/DN15

CM2000/5

3,000

6,000

23

7.5

DN40/DN32

CM2000/10

8,000

4,200

23

15

DN50/DN50

CM2000/20

20,000

2,850

23

37

DN80/DN65

CM2000/30

40,000

1,420

23

55

DN150/DN125

CM2000/50

80,000

1,100

23

110

DN200/DN150

注:流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同事流量可以被调节到zui大允许量的10%

更多详情请,段明明,


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