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半导体工业超纯水成套制水设备

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更新时间:2022-08-12 14:01:39浏览次数:236次

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产品简介

◇产水标准:符合国家电子工业用水I级标准、国家电子工业用水II级标准、国家电子工业用水III级标准、国家电子工业用水IV级标准、国家电子工来用水V级标准(GB11446-1-89)◇产水电阻率:10-18M.cm◇工业设备系统均采用多介质过滤器、活性炭过滤器作及保安过滤器作为前级处理

详细介绍

◇ 产水标准:符合国家电子工业用水I级标准、国家电子工业用水II级标准、国家电子工业用水III级标准、国家电子工业用水IV级标准、国家电子工来用水V级标准(GB11446-1-89)
◇ 产水电阻率:10-18MΩ.cm
工业设备系统均采用多介质过滤器、活性炭过滤器作及保安过滤器作为前级处理,有效除去原水中的悬浮物、泥砂、微粒、有机硅胶体、有机物、异味、余氯等杂质,使经过离子交换处理后的水质符合工业生产要求,在经过后端进行精处理系统(反渗透+EDI系统),使其产水水质满足生产用水的要求。
注:双纯水EDI为本公司技术、无需酸碱再生、无需更换耗品、环保节能、取代离子交换工艺
双纯水EDI与传统EDI膜块比较具有以下优点:
◇ 具有双纯水通道的EDI膜块、能耗低、产水量大
◇ 膜块内部阻力小、不易堵塞、不易破损
◇ 工作压力小、不易漏水、使用寿命长
◇ 超宽纯水通道、换交面积大、无需多级、产水电阻率高
◇ 电导性强的浓水通道、无需加盐、无需循环
◇ 加宽极水通道、不腐蚀、防止结垢



关键词:电阻率
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