PLC 工控机 嵌入式系统 人机界面 工业以太网 现场总线 变频器 机器视觉 DCS PAC/PLMC SCADA 工业软件 ICS信息安全 无线通讯 机箱机柜
上海瓦克仪器有限公司
暂无信息 |
解密镀层工艺、解析镀层结构辉光放电光谱仪是解密镀层工艺、解析镀层结构的强有力手段,可以通过元素变化获得镀层结构、层间扩散、元素富集、表面处理、镀层均一性等信息,从而改善工艺条件等
解密镀层工艺、解析镀层结构
辉光放电光谱仪是解密镀层工艺、解析镀层结构的强有力手段,可以通过元素变化获得镀层结构、层间扩散、元素富集、表面处理、镀层均一性等信息,从而改善工艺条件等。主要应用行业有金属冶金、半导体器件、LED芯片、薄膜太阳能电池、锂电池阴阳、光学玻璃、核材料等。
GD-Profiler 2 作为快镀层分析的理想工具,适合于导体和非导体复合镀层的分析,操作简单、便于维护,是镀层材料研发、质控的理想工具。
• 使用脉冲式射频辉光源,可有效分析热导性能差以及热敏感的样品。
技术参数:
1、射频发生器-标准配置、复合D级标准、稳定性高、溅射束斑为平坦、等离子体稳定时间短,表面信息无任何失真。
仪器原理:
辉光放电腔室内充满低压氩气,当施加在放电两的电压达到一定值,超过激发氩气所需的能量即可形成辉光放电,放电气体离解为正电荷离子和自由电子。在电场的作用下,正电荷离子加速轰击到(阴)样品表面,产生阴溅射。在放电区域内,溅射的元素原子与电子相互碰撞被激化而发光。您感兴趣的产品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
智能制造网 设计制作,未经允许翻录必究 .
请输入账号
请输入密码
请输验证码
请输入你感兴趣的产品
请简单描述您的需求
请选择省份