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广州智汇科学仪器有限公司
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GVC-1000直流离子溅射仪 在结构设计及人机界面方面更加注重人性，简单智能； 对于SEM样品常规适用黄金溅射； 能够极为有效的提供样品的导电性及导热性； 减少等离子体对样品的热影响和离子轰击损伤，显著提供扫描电镜观测结果。
全自动直流离子溅射仪为扫描电镜用户在制样过程中提供了更广泛的选择，以便适用支持扫描电子显微镜所需的涂层要求。在结构设计及人机界面方面更加注重人性，简单智能。对于SEM样品常规适用黄金溅射，GVC-1000提供了一个低成本的解决方案，同时可以通过更换不同的靶材（金、铂、铱、银、铜等），以达到更细颗粒的涂层。同时通过智能的人机界面精确、简单、方便控制仪器，同时具有估算镀层厚度，实时显示真空度，溅射电流。设定溅射时间。以及靶材的剩余情况。
GVC-1000离子溅射仪是专用于扫描电镜（SEM）的样品喷金仪器,能够极为有效的提供样品的导电性及导热性,确保恒沉积速率,减少等离子体对样品的热影响和离子轰击损伤.显著提供扫描电镜观测结果。
15s喷金效果图 30s喷金效果图 60s喷金效果图
金颗粒分布的均匀性和颗粒大小，通过场发射扫描电镜观测，不同时间内金颗粒分布非常均匀，颗粒度在10-20nm之间
溅射技术
离子溅射仪在电子显微镜领域内，往往需要对样品进行表面镀膜从而使样品表面成像或者图像质量得到改善。在样品表面覆盖一层导电的金属薄膜可以消除荷电反应，降低电子束对样品表面的热量损伤，可以提高SEM对样品进行形貌观察,所需要的二次电子信号量。
系统特点：
○ 仪器采用微处理器控制，自动化程度高、精确控制、易于操作；
○ 5英寸彩色触摸屏，可实时显示真空度、溅射电流、设定溅射时间、剩余溅射时间、膜厚估算等；
○ 可溅射金、银、铜、铂等常用靶材；
○ 实时显示设备运行时间、靶材使用时间，方便了解设备情况；
○ 内置过流、真空保护，在溅射电流过高或真空较差时自动中断，安全可靠；
○ 高灵敏度微调阀，可精确控制气体流量；
○ 靶材组件采取翻盖式设计，操作简洁、方便；
○ 内置用户使用向导和说明书，方便用户操作。
指 标 参 数：
外形尺寸： 424× 290×2 65 (mm） 工作电压： 200-240VAC 50H z
溅射电压： DC2400V 控制模式： 微处理器控制
功率： 500W 溅射电流： ≤30 mA
溅射时间： ≤600s 极限真空 ： 0.1Pa
工作真空： ≤30Pa 膜层厚度： 内置膜厚估算（金靶）
真空测量： 电阻规 真空 速 率： ＜2L /s
1）需要溅射喷金的样品
a)类样品是电子束敏感的样品，主要包括生物样品，塑料样品等。SEM中的电子束具有较高能量，在与样品的相互作用过程中，它以热的形式将部分能量传递给样品。如果样品是对电子束敏感的材料，那这种相互作用会破坏部分甚至整个样品结构。这种情况下，用一种非电子束敏感材料制备的表面镀层就可以起到保护层的作用，防止此类损伤；
b)另一类样品是非导电的样品，由于样品不导电，其表面带有“电子陷阱"，这种表面上的电子积累被称为“充电"。为了消除荷电效应，可在样品表面镀一层金属导电层，镀层作为一个导电通道，将充电电子从材料表面转移走，消除荷电效应。在扫描电镜成像时，溅射材料可以增加信噪比，从而获得更好的成像质量。
2)溅射材料
常用的溅射材料为金，导电性高。
喷金仪的真空度越高，所溅射的金属颗粒越小，可以减少样品表面形貌失真的情况。当需要超高分辨率成像时，高真空喷金仪，同时还可以选用其他溅射材料，如：铬，铱等，溅射的晶粒更细小。
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