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ETD-900型离子溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的,、可靠、经济的镀膜设备。适用于电镜实验室的扫描电子显微镜(SEM)样品制备,非导体材料实验电极制作。特点:配置有样品溅射室真空表和溅射电流表,用以指示、监控仪器状态;溅射电流调整控制器、微型真空气阀。在工作时结合内部自动控制电路很容易控制真空室压强、电离电流及任意选择所需要的电离气体,获得镀膜效果;特殊设计的钟罩边......
ETD-900型离子溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的,、可靠、经济的镀膜设备。适用于电镜实验室的扫描电子显微镜(SEM)样品制备,非导体材料实验电极制作。特点:配置有样品溅射室真空表和溅射电流表,用以指示、监控仪器状态;溅射电流调整控制器、微型真空气阀。在工作时结合内部自动控制电路很容易控制真空室压强、电离电流及任意选择所需要的电离气体,获得镀膜效果;特殊设计的钟罩边缘橡胶密封圈,可保证长期使用不会出现影响样品溅射室真空度的玻璃钟罩崩边现象;根据电场中气体电离特性,采用大容量样品溅射真空室和相应面积溅射靶,使溅射镀层更均匀纯净。
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