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ChemTron Strike 20 大型旋转蒸发仪

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更新时间:2023-01-13 10:56:04浏览次数:139次

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产品简介

产品描述Strike20旋转蒸发仪可应用于工业和实验室,所有与蒸汽和液体接触部件均采用硼硅玻璃或PTFE材质,几乎可以适用任何物料

详细介绍

产品描述

Strike 20 旋转蒸发仪可应用于工业和实验室,所有与蒸汽和液体接触部件均采用硼硅玻璃或PTFE 材质,几乎可以适用任何物料。可以把易挥发性成分(低沸点)从剩余的高沸点物料中分离出来。真空度可以达到8mbar,加热浴槽温度150℃,3kw 加热功率。
 

加热浴槽
加热槽通过一个液压系统,在断电的情况下会自动下降,以避免被分离样品过热。
 

密封系统
Strike 20 的特点就是它的密封系统,采用免维护材料, 形成一个的真空密封体系,该密封系统不需要任何维护。

压力和温度
Strike 20 可以在常压或真空条件下运行, 真空度可以达到8mbar。减少了样品的处理时间, 适用于在低蒸发温度下提取组分。恒温槽介质可使用水或导热油,温度可达150℃;它也允许任何溶剂蒸发。加热浴槽提供两3kw 的电加热器。

通过触摸屏可对以下参数进行测量,显示和控制
* 加热浴槽设置温度和实际温度
* 蒸汽设定温度和实际温度
* 蒸发瓶旋转速度设定值和实际值
* 真空度设定值和实际值 (已标标配了真空控制器 

应用范围

* 蒸馏(连续和间歇)
* 溶剂回收
* 回流反应过程
* 组件干燥
* 化学合成
* 结晶
* 提取
* 净化
* 研究

应用领域

* 制药
* 化学
* 化妆品
* 草本植物提取
* 餐饮
* 研究
* 石化

 

 Measurement, display and data recording of the following Parameters:
* Set and actual temperature value of the bath
* Set and actual vapour temperature value
* Set and actual rotation speed value of the evaporation flask
* Set and actual vacuum value (vacuum controller included as 支架ard)

 

技术指标

加热浴槽

温度范围 ℃

室温~150

温度精度 ℃

±2

分辨率 ℃

0.1

温度设置

可设置 (1℃ 增减)

温度控制方式

PID

温度波动度 ℃

±3

加热功率 kW

3

加热器功率/ 密度

≤3W / cm2

过温保护功能

温度传感器

PT100

液位

手动

蒸发温度

温度范围 ℃

室温 ... 150

温度精度 ℃

±2

分辨率 ℃

0.1

温度传感器

PT100

转速

转速范围 Rpm

10~150

转速精度 Rpm

±2

实际转速显示

转速分辨率 Rpm

1

真空控制

真空范围 mbar

8~ 常压

真空精度 mbar

±5mbar

真空分辨率 mbar

1

实际真空值显示

显示方式

数字显示

真空值设定

升降支架

开/ 关

电动

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