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超高分辨率场发射扫描电子显微镜 SU9000

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更新时间：2023-06-07 08:38:12浏览次数：204次

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产品简介

新的电子枪和电子光学设计提高了低加速电压性能。0.4 nm / 30 kV (SE)1.2 nm / 1 kV (SE)0.34 nm / 30 kV (STEM)用改良的高真空性能和的电子束稳定性来实现高效率截面观察。采用全新设计的Super E x B能量过滤技术，高效，灵活地收集SE / BSE/ STEM信号。

详细介绍

概述

产品参数

专门为电子束敏感样品和需300万倍稳定观察的*半导体器件，高分辨成像所设计。

产品参数

新的电子枪和电子光学设计提高了低加速电压性能。
0.4 nm / 30 kV (SE)
1.2 nm / 1 kV (SE)
0.34 nm / 30 kV (STEM)
用改良的高真空性能和的电子束稳定性来实现高效率截面观察。
采用全新设计的Super E x B能量过滤技术，高效，灵活地收集SE / BSE/ STEM信号。

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