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北京维意真空技术应用有限责任跟公司
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| 氦质谱漏率 | 1*10-11Pa m3/s | 极限真空度 | 1*10-6Pa |
|---|---|---|---|
| 接头型号 | 1/4VCR | 阀门耐温度 | 315℃ |
维意真空ALD/MO/CVD源瓶支持定制
源瓶（起泡器）用于固态、液态及气态超纯物料类的封装，涉及微正压、常压、中低压的危险化学品，所以对源瓶的安全性和洁净度提出严苛的要求。
维意真空ALD/MO/CVD源瓶支持定制
源瓶（起泡器）用于固态、液态及气态超纯物料类的封装，涉及微正压、常压、中低压的危险化学品，所以对源瓶的安全性和洁净度提出严苛的要求。
源瓶特点：
1、所有管件采用316L不锈钢，内部经400目机械抛光和电化学抛光，
Ra≦0.25微米；
2、阀门有美国世伟洛克球阀和隔膜阀、日本富士金隔膜阀和韩国TK
隔膜阀供选择；
3、密封垫片选用纯银镀镍垫片；
4、氦质谱检测泄漏率≦1.0*10-10mbar L/s；
5、可盛装化学品纯度≧99.9995;
6、总残余元素量≦50PPb；
7、坠落试验，通过国家商检部门检测；
8、介质，TMG\TEG\TMA\TMIN\DEE等；
9、可选择气动阀门或者实现在注入端子、输出端子以及接口之间的
交叉清扫处理等；
10、可提供非标定做。
维意真空ALD/MO/CVD源瓶支持定制
北京维意真空技术应用有限责任公司，原名北京科立方真空技术应用有限公司，创立于2013年6月，主体经营分为真空配件销售、真空设备定制、浅蓝纳米科技三个部分，是北京从事真空产品设计、制造、销售、维修、保养于一体的专业性的公司，公司拥有一支专业、优秀的产品技术工程师和维修技术工程师，具有丰富的行业经验。
公司于2016年初至2017年末，陆续投入大量研发资金，针对等PE-CVD离子增强化学气象沉积设备、ALD原子层沉积设备和高低温真空探针台、小型桌面磁控溅射镀膜机和小型桌面热蒸发镀膜机设备，以及附属配件（真空航插电极法兰、光纤真空馈通法兰、RJ45真空法兰、K型热电偶真空法兰等）进行了系统、深入的研发、改进工作。竭尽所能满足高校、研究所的教学、科研使用，同时减少相关进口设备，并力争创造外汇，打出中国创造！
我们的客户遍布国内各高校和研究院所、部分单位和电力试验所、各级的材料、物理、化学、纳米等研究领域实验室，期待您就是我们的下一位客户、朋友！
您的满意微笑是我们一直努力追求的经营目标！
维意真空，为您服务，唯你成就是我们的宣传口号！
技术创新、业务专业、服务诚信是我们一直遵循的经营理念！
我们热诚欢迎仪器制造商及科学工作者与我们联系开展各层面的合作,打造成真空系统设备供应商。
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