台积电的16FinFET工艺能够显著改善速度与功率,并且降低漏电流,有效克服*系统单芯片技术微缩时所产生的关键障碍。相较于台积电的28纳米能行动运算(28HPM)工艺,16FinFET工艺的芯片闸密度增加两倍,在相同功耗下速度增快逾40%,或在相同速度下功耗降低逾60%。
台积电总暨共同执行长刘德音博士表示:「我们在FinFET领域的研发已经超过十年,很高兴庞大的努力获得回馈并缔造此项成就。我们相信能发挥此项技术的zui大效益,并在专业集成电路服务领域的*工艺上,继续保持长期地位的优良纪录。」
台积电的16FinFET工艺早于2013年十一月即完成所有可靠性验证,良率表现优异,并进入试产阶段,为台积电与客户的产品设计定案、试产活动与初期送样打下良好基础。
藉由台积电的16FinFET工艺,海思半导体得以生产具显著效能与功耗优势的全新处理器,以支持高阶网通应用产品。海思半导体同时亦采用台积电经过生产验证且能整合多元技术芯片的CoWoS®三维集成电路封装技术,能有效整合16纳米逻辑芯片与28纳米输出/输入芯片,提供具成本效益的系统解决方案。
海思半导体总裁何庭波表示:「很高兴在台积电FinFET技术及CoWoS®解决方案的支持下,我们成功开发下一代面向无线通信和路由器应用的通信处理器并得以量产。该芯片采用ARMV8架构,集成32核A57,主频可达2.6GHz,使用CoWoS®封装技术,具有丰富的通信接口和通信加速器。该芯片的调度、转发和信令处理能力较前一代芯片性能提升3倍,支持虚拟化,可以支持SDN和NFV,应用于未来的基站、路由器、核心网等通信设备。通过大幅提升关键指标,极大提升了产品的竞争力。」
下一篇:传感器在机械加工中的应用
免责声明
- 凡本网注明"来源:智能制造网"的所有作品,版权均属于智能制造网,转载请必须注明智能制造网,https://www.gkzhan.com。违反者本网将追究相关法律责任。
- 企业发布的公司新闻、技术文章、资料下载等内容,如涉及侵权、违规遭投诉的,一律由发布企业自行承担责任,本网有权删除内容并追溯责任。
- 本网转载并注明自其它来源的作品,目的在于传递更多信息,并不代表本网赞同其观点或证实其内容的真实性,不承担此类作品侵权行为的直接责任及连带责任。其他媒体、网站或个人从本网转载时,必须保留本网注明的作品来源,并自负版权等法律责任。
- 如涉及作品内容、版权等问题,请在作品发表之日起一周内与本网联系,否则视为放弃相关权利。
2025第十一届中国国际机电产品交易会 暨先进制造业博览会
展会城市:合肥市展会时间:2025-09-20