KRi 大尺寸射频离子源树脂镜片高性能 AR 工艺

2023年06月06日 11:23:27人气：141来源：伯东企业（上海）有限公司

KRi 大尺寸射频离子源树脂镜片高性能 AR 工艺
树脂为手机行业目前常用的镜片基材, 为了减少镜片反射, 提升透过率, 会在镜片表面镀 AR 增透膜 (减反膜), 它是一种硬质耐热氧化膜, 可在特定波长范围内将元器件表面的反射率最小化. AR coating 可以显著提高树脂基材的透过率. 光线在透过不同介质时会产生折射和反射, 当加上单面 AR coating 后, 滤光片会提升 3～5%的透光率, 让图像更清晰且让镜片不容易起雾.

手机镜头等上游供应商在生产工艺中通常使用离子源进行辅助沉积, 由此改善由手机摄像头内树脂镜片非有效径区域透光跟反射光线形成的 flare 现象, 提高手机摄像头的成像质量, 提升镜头竞争力. 在镀膜过程中, 同时需要解决诸如脱膜, 光谱的不稳定, 均匀性不佳及无法在大型蒸镀机稳定的大量生产等问题.

上海伯东美国 KRi 大尺寸射频离子源 RFICP 380, 利用高均匀性的离子分布及高稳定的离子能量成功搭配于 1米7 的大型蒸镀设备, 解决了在树脂基材镜头上无法达到高质量镀膜要求的问题, 同时也提升了企业生产效能.

客户原使用国产传统灯丝型离子源 (霍尔离子源), 因离子源高温, 发热, 易造成树脂融化, 产生磨砂物质,导致表面污染, 对材料本身造成结构性破坏; 传统灯丝型霍尔离子源每天需要更换灯丝, 保养时间长, 对生产效率有一定的影响. 经过推荐客户改装美国进口 KRi 大尺寸射频离子源, 提高折射率, 增加树脂镜片表面的膜层致密度, 增加膜强度, 整体上提升了镀膜效果！
镀膜材料: 高折射率材料 Ti2O5 (氧化钛), 低折射率材料 SiO2 (氧化硅）
应用: 树脂镜片镀 AR 增透膜（减反膜）
镀膜设备: 1米7 的大型蒸镀设备, 配置美国 KRi 射频离子源 RFICP 380
测试环境: 80C / 80% 湿度, 85C / 95% 湿度, 连续 1,500 小时高温高湿严苛环境测试

KRi 大尺寸射频离子源树脂镜片高性能 AR 工艺

上海伯东美国 KRi 射频离子源 RFICP 系列, 无需灯丝提供高能量, 低浓度的离子束, 通过栅极控制离子束的能量和方向, 单次工艺时间更长! 射频离子源适合多层膜的制备, 离子溅镀镀膜和离子蚀刻, 改善靶材的致密性, 光透射, 均匀性, 附着力等. 上海伯东是美国 KRi 离子源中国总代理.
KRi 射频离子源

美国 KRi RFICP 射频离子源技术参数：

型号	RFICP 40	RFICP 100	RFICP 140	RFICP 220	RFICP 380
Discharge 阳极	RF 射频	RF 射频	RF 射频	RF 射频	RF 射频
离子束流	>100 mA	>350 mA	>600 mA	>800 mA	>1500 mA
离子动能	100-1200 V	100-1200 V	100-1200 V	100-1200 V	100-1200 V
栅极直径	4 cm Φ	10 cm Φ	14 cm Φ	20 cm Φ	30 cm Φ
离子束	聚焦, 平行, 散射
流量	3-10 sccm	5-30 sccm	5-30 sccm	10-40 sccm	15-50 sccm
通气	Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
典型压力	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr	< 0.5m Torr
长度	12.7 cm	23.5 cm	24.6 cm	30 cm	39 cm
直径	13.5 cm	19.1 cm	24.6 cm	41 cm	59 cm
中和器	LFN 2000

上海伯东同时提供真空系统所需的涡轮分子泵, 真空规, 高真空插板阀等产品, 协助客户生产研发高质量的真空系统.

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项专. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域.

若您需要进一步的了解 KRi 射频离子源, 请参考以下联络方式
上海伯东: 罗先生

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