CR工艺的温度控制非常重要,反应温度为850℃。温度过低,NH3反应不,易造成NH3泄漏;但温度过高时,NH3易氧化为NOx,抵消了NH3的脱除效率。温度过高或过低都会导致还原剂的损失和NOx脱除率的下降。
SCR工艺设备分为两个部门:一是还原剂制备区设备,即氨区。如果使用液氨,则与SCR工艺类似。另一个板块是炉喷设备。工艺设备简单。SCR脱硝系统的建设是一次性投资,运行费用低。脱硝过程不使用催化剂,不存在其他烟气脱硝技术带来的增加系统压损等缺点。
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SCR工艺设备分为两个部门:一是还原剂制备区设备,即氨区。如果使用液氨,则与SCR工艺类似。另一个板块是炉喷设备。工艺设备简单。SCR脱硝系统的建设是一次性投资,运行费用低。脱硝过程不使用催化剂,不存在其他烟气脱硝技术带来的增加系统压损等缺点。
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