华林科纳-CSE一、采用德国10mm(5MM)NPP板热弯/焊接组合加工;双篮/单篮二、槽体结构:该槽体实现腐蚀或后残留在片子上的化学液及污染颗粒的冲洗祛除功能。它由安装在槽体底部的快排阀、DI注入孔(包括氮气鼓泡)及顶部左右两侧的DI喷嘴实现槽体的快速注入与排放。三、工艺控制:快排冲洗槽(QDR)的工作过程由独立K200型控制器保证。它包括工艺时间、冲洗次数设置、工作完成提示以及过程中的故障报警、状态提示等功能。
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公司以中科院纳米所的研究平台和技术团队为技术依托,整合华林伟业在相关行业多年的设备制造经验,研发生产中半导体设备。公司以品质为根本,以创新为突破点,走设备研发和工艺研究相结合的道路,使设备能够满足和较早的工艺。公司的研发团队由张宝*士、王敏瑞博士、张永红博士等十多名在半导体、太阳能光伏及液晶行业有多年设备和工艺经验的专业人士组成。
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