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TOP-COAT前清洗设备(非标设备)

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具体成交价以合同协议为准
  • 公司名称苏州华林科纳半导体设备技术有限公司
  • 品       牌
  • 型       号
  • 所  在  地苏州市
  • 厂商性质生产厂家
  • 更新时间2024/4/12 9:50:49
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苏州华林科纳半导体设备技术有限公司由*苏州纳米技术与纳米仿生研究所与北京华林伟业合资成立。总投资4500万元。主要从事半导体设备、太阳能光伏设备、液晶湿制程设备、真空设备等的研发、技术推广和生产销售。

公司以中科院纳米所的研究平台和技术团队为技术依托,整合华林伟业在相关行业多年的设备制造经验,研发生产中半导体设备。公司以品质为根本,以创新为突破点,走设备研发和工艺研究相结合的道路,使设备能够满足和较早的工艺。公司的研发团队由张宝*士、王敏瑞博士、张永红博士等十多名在半导体、太阳能光伏及液晶行业有多年设备和工艺经验的专业人士组成。

液晶清洗设备
TOP-COAT前清洗设备(非标设备) 产品信息

 

  1.设备概要
   本设备通过清洗、喷淋、风刀洗净基板,并通过IR、UV去除水分,从而提高       基板表面的浸润性,冷却基板温度通过后续的TBL入COAT设备。上料机、TBL、下料机等设备,根据贵公司的线体构成、印刷设备等具体情况而定。
   2.设备规格
   (1)处理对象:STN、CSTN液晶用玻璃板
   (2)处理目的:清洗、干燥
   (3)玻璃尺寸: 14″×16″,17″,t=0.4、0.55、0.7、1.1mm
   (4)篮子规格:贵公司提供(调试时zui少需要2个)
   (5)基板传送方向:从左到右,或从右到左
   (6)设备外形尺寸:约10450×1400×1650mm
   (7)干燥重量:约5200Kg
   (8)基板传送高度:从地面至基板下面为900mm
   (9)传送方式:水平枚叶式传送方式
   (10)传送滚轮间距:基本为80mm
   (11)处理时间:标准18秒/块标准传送速度 约2.1米/分钟
   (12)启动准备时间:启动后约60分钟
    3.外供电源
   (1)主机:3相,380V,50Hz,约130kWA
   (2)合计:约130kVA
   (3)纯水用量:约32L/min,0.15Mpa G,电阻值10MΩ/cm以上
   (4)冷却水用量:约12L/min,0.15Mpa G无背压,约17℃
   (5)空气用量:约4200NL/min,0.4~0.5Mpa G,洁净干燥气
   (6)真空用量:约30L/min,-67kPa
 
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