设备名称 | PR前清洗设备 | 用于液晶工艺中对基板蚀刻。 | |
规格尺寸 | 长 15000mm | 宽 1780mm | 高 1600mm |
主要材质 | 壳体:德国进口PP板, | ||
产品特点 | 1.全程工艺采用PLC控制,触摸屏操作。设备槽体实现了腐蚀或后残留在片子上的化学液及污染颗粒的冲洗祛除功能。它由安装在槽体底部的快排阀、DI注入孔(包括氮气鼓泡)及顶部左右两侧的DI喷嘴实现槽体的快速注入与排放。 2.设备快排冲洗槽(QDR)的工作过程由独立K200型控制器保证。它包括工艺时间、冲洗次数设置、工作完成提示以及过程中的故障报警、状态提示等功能。 | ||
备 注 | 整台结构设计合理,外型美观,性能稳定可靠。广泛应用于液晶行业。 |
苏州华林科纳半导体设备技术有限公司由*苏州纳米技术与纳米仿生研究所与北京华林伟业合资成立。总投资4500万元。主要从事半导体设备、太阳能光伏设备、液晶湿制程设备、真空设备等的研发、技术推广和生产销售。
公司以中科院纳米所的研究平台和技术团队为技术依托,整合华林伟业在相关行业多年的设备制造经验,研发生产中半导体设备。公司以品质为根本,以创新为突破点,走设备研发和工艺研究相结合的道路,使设备能够满足和较早的工艺。公司的研发团队由张宝*士、王敏瑞博士、张永红博士等十多名在半导体、太阳能光伏及液晶行业有多年设备和工艺经验的专业人士组成。
PR前清洗设备 产品信息