RTP-Table-6桌面型快速退火炉是利用卤素红外灯作为热源,利用极快的升温速率,将晶圆或是材料在很短的时间加热至300℃-1250℃,进而消去晶圆或是原材料内部某些缺点,改进产品特性。
工作原理
快速退火炉采用的微电脑自动控制系统,选用PID闭环控制温度,能够达到的控温精度和温度均匀性,而且可配置真空腔体,也可根据客户加工工艺要求配备多路气体。
行业应用
快速热处理工艺(RTP)
快速退火(RTA)
快速热氧化(RTO)
化合物合金(砷化镓、氮化物等)
多晶硅退火
欧姆接触快速合金
产品优势
暂无数据
应用案例
产品推荐

半自动快速退火炉RTP-SA-12
可测单晶片样品的尺寸为12英寸

全自动双腔快速退火炉RTP-DTS-8
全自动双腔设计,可兼容6-8英寸WAFER
产品尺寸 6寸晶圆或者支持150*150mm产品
温度范围 室温~1250℃
温控方式 快速PID温控
温度均匀度 ±5℃≤500℃ ±1%>500℃