智能制造网APP
智能制造网手机站
智能制造网小程序
智能制造网官微
智能制造网服务号
铭版 Chromo mask 干版 Emulsion Mask 凸版 PI Sheet 光绘菲林 Film
光掩膜版（Photomask）又称光罩，是在含有金属薄膜的玻璃基板（Blanks）上，形成复杂几何图（Geometry）的图形转移母板即俗称的Mask。例如在半导体的曝光制程中，利用光掩膜版模板以及曝光的手段就能够在硅基板上形成电路Pattern。现在，随着LCD的大型化和高效能化，光掩膜版也在不断的提高自身的精细化以及大尺寸化，比如在超过1200mm的玻璃上，实现线宽必须达到数微米的高精准度的要求。
光掩膜版制程简单来描述，是在基板（Blanks）上涂上光阻（Resist）材料，利用镭射电子束设备绘刻出所需的各种Geometry，并继续进行显影的制程，去除掉基板（Blanks）上多余的光阻材料，再透过蚀刻的制程，去除掉不被光阻材料覆盖的金属膜，zui后再清洗残留下来的光阻材料，zui后便会依照铬膜的线路，让Geometry留在玻璃基板上。zui后还必须进行检查、测量并确认是否正确精准的形成了Geometry，并在超高精细的光掩膜版上贴附用来防止灰尘以及静电的保护膜（Coating）之后出厂。
目前光掩膜版的基板材料，较常被使用的有石英玻璃和苏打玻璃（Soda-lime）玻璃两种。苏打玻璃较多被应用在STN-LCD、TN-LCD、FED、EL等产品的生产上，而用于TFT-LCD的光掩膜版，由于热膨胀率小，所以尺寸精度要求较高，并且因为需要有90％以上的良好透光率，因此采用了能实现高精细程度Geometry的石英玻璃。而利用铬元素作为遮光材料的理由是，铬不但可以镀出均一的厚度，并且在蚀刻制程中还能加工出精细的线路，实现更高分辨率的目标，而且光掩膜版上的铬是一种无毒害无污染的元素，符合Rohs安全管控标准，所以目前就用来光掩膜版的遮光材料这一方面，可以说目前还没有比金属铬更合适的材料。
1、PCB、LCD掩模版、干版掩模版、包括BGA、HDI等；
2、TFT、彩色STN、STN和TNLCD铬版掩膜版；
3、STN、TN超微粒干版掩模版；
4、EL、OLED、Display铬版掩模版；
5、IC Lead Frame铬版掩模版；
6、PDP/VFD用铬版、干版掩模版；
7、精细电子元器件用掩模版，包括贴片式电感、电容、电阻和传感器等；
8、各种*集成电路封装基板铬版，干版掩模版；
9、各种编码用铬版掩模版；
10、LCD用300、400线PI印刷凸版。
掩模版设备/PP放版架/PP凉版架/PVC显影槽/全自动掩膜版蚀刻设备/蚀刻槽/蚀刻生产线/清洗篮/铬版掩模版设备铭版 Chromo mask 干版 Emulsion Mask 凸版 PI Sheet 光绘菲林 Film
