GGL-501/502型管式坩埚炉

本产品采用单管或双管炉结构连续通氧烁烧陶瓷坩埚，采用现烧现用的方式，具有高效去除坩埚中碳硫酸杂质降低空白的功能。主要用于金属材料中碳硫测定的陶瓷坩埚预处理，是红外碳硫分析*的配套设备。
    碳硫坩埚的空白值直接影响到红外分析碳硫的精度和准确性，对于超低碳硫的分析尤为重要，如果碳磁坩埚处理的不好，将使分析结果产生波动，直接影响测试结果。基于这一考虑，ISO标准中规定了坩埚的空烧。通常要求将坩埚置于管式炉中，在1000℃的温度下进行处理。 用管式坩埚炉处理后的坩埚，其碳的空白值比传统的马弗炉灼烧后坩埚空白值低一个数量级，硫的空白值更低。坩埚空白低而且稳定，碳空白值< 0.6ppm，硫空白值< 0.3ppm。
    加热元件采用耐高温达1400℃的钼合金电阻丝，采用晶闸管智能模块自动调节温度，控温准确±1℃。炉体采用多晶高温纤维制品，耐火保温材料效果好，炉外壳温度手感不烫手（<70℃）。坩埚现烧现用，操作方便，不需要其它中间环节，也不需要干燥器存储双管同时处理坩埚，每小时可处理120/240个合格坩埚。 
主要特点
1、载氧恒温烁烧、随用随取 、方便快捷；
2、加热元件采用耐高温达1400℃的钼合金电阻丝；
3、采用晶闸管智能模块自动调节温度，控温准确±1℃；
4、炉体材料使用多晶体耐高温纤维制品压制而成，耐火保温效果非常好，炉外壳温度手感不烫手。