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Nikon分步投影光刻机NSR-S204B,用于集成电路生产过程中的微光刻工艺,通过投影成像方式,把掩模版上集成电路图形以高分辨率、高精度、高效率的方式分步重复曝光在涂有胶层的硅片表面
Nikon分步投影光刻机NSR-S204B,用于集成电路生产过程中的微光刻工艺,通过投影成像方式,把掩模版上集成电路图形以高分辨率、高精度、高效率的方式分步重复曝光在涂有胶层的硅片表面。
Nikon分步投影光刻机NSR-S204B含有硅片自动传输系统、版库自动管理系统、可编程掩模光栏、自动调焦调平、硅片自动对准、掩模板自动对准、镜头倍率及焦点自动控制、曝光能量的自动补整、腔体温度环境控制、故障显示报警等*功能。
NSR-S204B型分步投影光刻机基本工作过程:把曝光掩模和硅片分别装入掩模库和硅片承载台以后;通过操作设备的控制系统,使设备按照所需设定的制作程序自动完成掩模、硅片的传递交换,并根据生产工艺需要进行自动对准、自动调焦调平、自动扫描曝光等工作过程。
Nikon分步投影光刻机NSR-S204各部分重量:主机重量(净重)7200Kg,温调柜重量860Kg,传送腔体重量850Kg,空调机重量650Kg,控制柜重量300Kg,BMU重量180Kg,变压器重量160Kg
运输Nikon分步投影光刻机NSR-S204方式:采用半导体专用设备减震车运输。
Nikon分步投影光刻机NSR-S204对环境要求:温度控制在19~24℃之间,湿度小于70%。
用户在收到Nikon分步投影光刻机NSR-S204及其附件后,应即刻运送存放在满足温度、湿度要求的厂房内,切勿露天或在温湿度不受控的环境存放。
在运输Nikon分步投影光刻机NSR-S204过程中,应避免冲击和震动,轻搬轻放。严格要求具有防振、减震措施,搬运过程中振动不大于1G。
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