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东莞市晟鼎精密仪器有限公司
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RTP-DTS-8全自动双腔快速退火炉是利用卤素红外灯作为热源,利用极快的升温速率,将晶圆或是材料在很短的时间加热至300℃-1250℃,进而消去晶圆或是原材料内部某些缺点,改进产品特性
RTP-DTS-8全自动双腔快速退火炉是利用卤素红外灯作为热源,利用极快的升温速率,将晶圆或是材料在很短的时间加热至300℃-1250℃,进而消去晶圆或是原材料内部某些缺点,改进产品特性。
快速退火炉采用的微电脑自动控制系统,选用PID闭环控制温度,能够达到的控温精度和温度均匀性,而且可配置真空腔体,也可根据客户加工工艺要求配备多路气体。
快速热处理工艺(RTP)
快速退火(RTA)
快速热氧化(RTO)
化合物合金(砷化镓、氮化物等)
多晶硅退火
欧姆接触快速合金
兼容6-8英寸WAFER
兼容6-8英寸WAFER
产品尺寸 6寸-8寸
温度范围 室温~1250℃
温控控制重复性 ±1℃
温度均匀度 ±3℃≤600℃ ±0.5%>600℃
升温速度 ≤30℃/s(载盘)
腔体数量 双腔
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