详细摘要： RTEPLASMA等离子去胶机适用于硅基材料的晶圆表面去胶的清洗设备，也可用于光刻胶去除，碳化硅刻蚀，硬掩膜层干法清除，刻蚀后表面清洁，氧化硅或氮化硅刻蚀
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东莞市晟鼎精密仪器有限公司
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