PLC 工控机 嵌入式系统 人机界面 工业以太网 现场总线 变频器 机器视觉 DCS PAC/PLMC SCADA 工业软件 ICS信息安全 无线通讯 机箱机柜
上海载德半导体技术有限公司
上海载德半导体技术有限公司
产品概要： 光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统，紫外曝光机等。ECOPIA为的半导体设备供应商，多年来致力于掩模对准光刻机和匀胶机研发与生产，并且广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领域；该公司是目前早将光刻机商品化的公司之一，拥有雄厚的技术研发力量和设备生产能力；并且其设备被众多企业、研发中心、研究所和高校所采用；以优秀的技术、的工艺和良好的服务，赢得了用户的青睐。
光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统，紫外曝光机等；ECOPIA为的半导体设备供应商，多年来致力于掩模对准光刻机和匀胶机研发与生产，并且广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领域；该公司是目前早将光刻机商品化的公司之一，拥有雄厚的技术研发力量和设备生产能力；并且其设备被众多企业、研发中心、研究所和高校所采用；以优秀的技术、的工艺和良好的服务，赢得了用户的青睐。
产地：韩国ECOPIA公司；
型号：M-150
技术规格：
- 掩模尺寸：7英寸；
- 样品尺寸：6英寸；
- 卡盘移动：X,Y,Z,Theta轴手动，楔形补偿调平；
- 紫外光源：6.25" X 6.25"；
- 光源功率：350瓦紫外灯；
- 光源均匀性：<+/-3%；
- 光源365nm波长强度：30毫瓦；
- 显微镜：双显微镜系统；
- 显微镜移动：X,Y,Z轴手动调节；
- 显微镜物镜空间：50-150mm；
- 标配放大倍率：80X-400X；
- 显示器：20" LCD；
- 曝光时间：0.1-999秒；
- 接触模式：真空接触，硬接触，软接触，接近接触(距离可调)；
- 对准精度：1um (Vacuum Contact), 1.5um(Hard Contact), 3um(Soft Contact), 5um(Proximity Mode)；
- 电源：220V，单相，15安培；
主要特点:
- 光源强度可控；
- 紫外曝光，深紫外曝光(Option)；
- 系统控制：手动、半自动和全自动控制；
- 曝光模式：真空接触模式(接触力可调),Proximity接近模式, 投影模式；
- 真空吸盘范围可调；
- 技术：可双面对准，可双面光刻，具有IR和CCD模式
- 双CCD显微镜系统，放大1000倍，显示屏直接调节，比传统目镜对准更方便快捷，易于操作。
- 特殊的基底卡盘可定做；
- 具有楔形补偿功能；
您感兴趣的产品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
智能制造网 设计制作，未经允许翻录必究 .
请输入账号
请输入密码
请输验证码
