详细摘要: 超大尺寸匀胶设备 M+/1500-C,主要用于完成基片光阻涂布工艺。设备可分别配置主轴旋转装置、 光阻供液系统(腔体清洗液)、排风系统、上料装置、控制部份等;设...
产品型号:M+1200所在地:西安市更新时间:2024-07-22 在线留言PLC 工控机 嵌入式系统 人机界面 工业以太网 现场总线 变频器 机器视觉 DCS PAC/PLMC SCADA 工业软件 ICS信息安全 应用方案 无线通讯
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