详细摘要： APM1#液去表面颗粒及金属杂质HPM2#液去金属粒子SPM3#液,去污及部分金属DHF去氧化层和金属粒QDR去离子水冲洗
产品型号：M+200-CC所在地：西安市更新时间：2025-05-15 在线留言PLC 工控机 嵌入式系统 人机界面 工业以太网 现场总线 变频器 机器视觉 DCS PAC/PLMC SCADA 工业软件 ICS信息安全 应用方案 无线通讯
陕西爱姆加电子设备有限公司
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详细摘要： APM1#液去表面颗粒及金属杂质HPM2#液去金属粒子SPM3#液,去污及部分金属DHF去氧化层和金属粒QDR去离子水冲洗
产品型号：M+200-CC所在地：西安市更新时间：2025-05-15 在线留言
详细摘要： 一、产品使用范围： • 弯月牙涂胶基板尺寸：1400 mm×420 mm×200 mm)；• 液体胶刀的有效尺寸
产品型号：M+4500所在地：西安市更新时间：2025-04-30 在线留言
详细摘要： 一、主要技术规格：1. 适应2〞~8〞晶圆烘烤2. 热板温度： 60℃-300℃（温度为150℃以上请勿合盖）3. 温度均匀性： ±1℃（Φ...
产品型号：M+HP200-1所在地：西安市更新时间：2025-04-17 在线留言
详细摘要： 型号：Ｍ+-E150主要用途： 用于IC生产及元器件生产中晶片的湿法刻蚀、清洗工艺。其作用是去除晶片表面的有机物、颗粒、金属杂质、自然氧化层及石、塑料等附件器...
产品型号：M+100-E所在地：西安市更新时间：2025-03-29 在线留言
详细摘要： 半自动涂胶显影机 型号：M+200Ｄ适用用圆片尺寸: 2"、3"、4"；以及5x5,10x10,25x25方片工艺工步：放置圆片（可辅助定中心）启动防溅罩到上...
产品型号：M+100C-M所在地：西安市更新时间：2025-03-28 在线留言
详细摘要： 设备实现2“-12“晶圆兼容涂胶、显影模块自带暂停/恢复功能同片盒内每个硅片可分别制定工艺运行设备和各工位全封闭设计，不受外环境干扰可独立增加层流罩，提升小环境...
产品型号：M+100CD所在地：西安市更新时间：2025-03-25 在线留言
详细摘要： 大尺寸匀胶机，尺寸范围：500-500，厚度8mm匀胶机主轴速度：3500RPM匀胶机可增加功能有：自动供液系统 -自动排风系统-自动背洗功能大尺寸匀胶机，尺寸...
产品型号：M+500C所在地：西安市更新时间：2025-02-28 在线留言
详细摘要： 产品特点：方形基片的边缘清洗边缘区域：1-20mm基片厚度要求：0.5-20mm自动对准边缘尺寸液体喷嘴数量可选可增配
产品型号：M+450-EBR所在地：西安市更新时间：2024-12-11 在线留言
详细摘要： 超大尺寸匀胶设备 M+/1500-Ｃ，主要用于完成基片光阻涂布工艺。设备可分别配置主轴旋转装置、 光阻供液系统（腔体清洗液）、排风系统、上料装置、控制部份等；设...
产品型号：M+1200所在地：西安市更新时间：2024-07-22 在线留言
详细摘要： 匀胶机-针对实验室使用匀胶机是在高速旋转的基片上，滴注各类胶液，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上的设备，膜的厚度取决于匀胶机的转速和溶胶的黏度
产品型号：M+150-M所在地：西安市更新时间：2024-01-22 在线留言
详细摘要： 量子点是一种通常仅由几千个原子组成的晶体，就大小而言，它与足球的比例就相当于足球与地球的比例。这么小的粒子，我们肉眼是看不见的，但它们却有着非常特殊的性质。
产品型号：M+S200-S所在地：西安市更新时间：2024-01-19 在线留言
详细摘要： 设备名称、数量硝酸抛光清洗机 壹台2.工艺参数1）处理对象：、铟环材料的抛光、清洗、脱水工艺（特制专用装夹工具）；2）药液处理槽数量：共有三个清洗槽，分别为：硝...
产品型号：M+500-EE所在地：西安市更新时间：2024-01-12 在线留言
详细摘要： JA成立后2年内，AJA就研发出了的ATC系列溅射系统，共焦溅射设备，带旋转基片和原位偏转磁控溅射靶源。技术突破实现了薄膜均匀性，并且可以控制单层、多层以及合金...
产品型号：所在地：西安市更新时间：2024-01-12 在线留言
详细摘要： 自动匀胶显影机使用范围：pumping封装、3D-TSV、MEMS、OLED等领域PR工艺涂胶胶显影；产能：预估100wafer/H;产品种类：晶片如硅、玻璃片...
产品型号：M+300所在地：西安市更新时间：2023-12-29 在线留言
详细摘要： 主要特点：线性布局，自动传片，自动完成去胶工艺。晶圆尺寸根据用户需求。腔体共有三层，每层都有单独的药液排放 循环功能。清洗多种金属颗粒和有机物残留。药液在循环中...
产品型号：M+100-L所在地：西安市更新时间：2023-12-29 在线留言
详细摘要： 方形基片匀胶机，型号M+/C450-40，主要用于完成方形基片（全息光栅涂胶机）、大尺寸玻璃片匀胶机、方形基片显影机等匀胶、显影、清洗工艺玻璃片尺寸wafer ...
产品型号：M+D450所在地：西安市更新时间：2023-12-28 在线留言
详细摘要： 半导体制冷技术已经成为了一种具有广泛应用前景的技术。从微型电子设备到大型冷冻仓库，半导体制冷技术都发挥着的作用。那么，半导体制冷原理究竟是什么呢
产品型号：M+100HC所在地：西安市更新时间：2023-12-28 在线留言
详细摘要： 桌面式自动批量晶片转移器是为批量晶圆转移设计的自动晶圆转移设备,实现批量晶片在两个晶片盒之间水平“滑动传送"。 大多数与高剖面和低剖面晶圆片盒框架盒兼容。晶圆...
产品型号：M+S200所在地：西安市更新时间：2023-12-28 在线留言
详细摘要： 一、主要技术规格：1. 适应2〞~8〞晶圆烘烤2. 热板温度： 60℃-300℃（温度为150℃以上请勿合盖）3. 温度均匀性： ±1℃（Φ...
产品型号：M+HP200所在地：西安市更新时间：2023-12-20 在线留言
详细摘要： 用途：该机台主要适用于6inch及以下尺寸各种衬底如硅片、化合物半导体晶片（GaAs,InP等）、玻璃片和陶瓷片等进行电镀金工艺，适合研发和生产使用。用途：该机...
产品型号：M+100EE所在地：西安市更新时间：2023-12-12 在线留言您感兴趣的产品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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