详细摘要: 旋转式片盒清洗机是一种高效、自动化的清洗设备,主要用于半导体制造过程中晶圆和芯片的清洗和干燥
产品型号:所在地:菏泽市更新时间:2024-10-22 在线留言PLC 工控机 嵌入式系统 人机界面 工业以太网 现场总线 变频器 机器视觉 DCS PAC/PLMC SCADA 工业软件 ICS信息安全 应用方案 无线通讯
菏泽力芯电子科技有限公司
详细摘要: 半导体浸泡式片盒清洗机专为半导体晶圆行业湿法制程设计,通过化学液体浸泡、冲洗、漂洗、鼓泡、快排等方式,对Cassette、FOUP、FOSB、POD、BoatJ...
产品型号:所在地:菏泽市更新时间:2024-10-22 在线留言详细摘要: 半导体晶圆硅片HF湿法刻蚀机清洗机是利用氢氟酸(HF)或稀释的氢氟酸溶液来去除晶圆表面的氧化物和硅二氧化物,从而实现精确的材料去除。
产品型号:所在地:菏泽市更新时间:2024-10-22 在线留言详细摘要: 卧式石英舟清洗机是专为半导体制造过程中的石英舟和石英管设计的清洗设备。它通过使用去离子水(DIW)、酸液等药液,对8寸/12寸等多种尺寸的石英舟/石英管进行高效...
产品型号:所在地:菏泽市更新时间:2024-10-22 在线留言详细摘要: EKC湿法槽式清洗机是一种广泛应用于半导体制造、医疗机械清洗等领域的设备,其主要功能包括去胶、酸洗、中和清洗和烘干等步骤
产品型号:所在地:菏泽市更新时间:2024-10-21 在线留言详细摘要: 半导体、晶圆、硅片外延部件单片清洗机一款用于半导体制造过程中的EPI(Epitaxial)外延部件清洗的设备,主要用于在晶圆上进行薄膜沉积的预镀工艺
产品型号:所在地:菏泽市更新时间:2024-10-21 在线留言详细摘要: CMP预清洗机是一种用于化学机械抛光(CMP)工艺前的晶圆清洗设备,主要用于去除晶圆表面的杂质和残留物,以确保CMP工艺的顺利进行。
产品型号:所在地:菏泽市更新时间:2024-10-21 在线留言详细摘要: 旋转式片盒清洗机是一种高效、自动化的清洗设备,主要用于半导体制造过程中晶圆和芯片的清洗和干燥。
产品型号:所在地:菏泽市更新时间:2024-10-20 在线留言详细摘要: 主要功能:本设备主要采用机械臂搬运方式,通过对硅片腐蚀、漂洗等方式进行处理,从而达到一个用户要求的清洗效果。
产品型号:所在地:菏泽市更新时间:2024-10-20 在线留言详细摘要: 全自动槽式清洗机是一种用于半导体制造过程中的晶圆或器件清洗设备,采用槽式结构设计,结合全自动化控制,实现高效、可靠的清洗过程。
产品型号:所在地:菏泽市更新时间:2024-10-20 在线留言详细摘要: 立式炉管清洗机专为半导体晶圆行业湿法制程设计,通过使用DIW(去离子水)喷淋方式,对炉管进行高效清洗。该设备适用于手动清洗机台,能够有效去除0.2um以上的pa...
产品型号:所在地:菏泽市更新时间:2024-10-20 在线留言详细摘要: RCA半导体清洗机清洗工艺可以有效去除晶圆、硅片、半导体表面的细微颗粒物、金属残留、光刻胶残留物等问题。
产品型号:所在地:菏泽市更新时间:2024-10-19 在线留言您感兴趣的产品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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