详细摘要: 半导体晶圆硅片HF湿法刻蚀机清洗机是利用氢氟酸(HF)或稀释的氢氟酸溶液来去除晶圆表面的氧化物和硅二氧化物,从而实现精确的材料去除。
产品型号:所在地:菏泽市更新时间:2024-10-22 在线留言PLC 工控机 嵌入式系统 人机界面 工业以太网 现场总线 变频器 机器视觉 DCS PAC/PLMC SCADA 工业软件 ICS信息安全 应用方案 无线通讯
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详细摘要: 半导体晶圆硅片HF湿法刻蚀机清洗机是利用氢氟酸(HF)或稀释的氢氟酸溶液来去除晶圆表面的氧化物和硅二氧化物,从而实现精确的材料去除。
产品型号:所在地:菏泽市更新时间:2024-10-22 在线留言详细摘要: EKC湿法槽式清洗机是一种广泛应用于半导体制造、医疗机械清洗等领域的设备,其主要功能包括去胶、酸洗、中和清洗和烘干等步骤
产品型号:所在地:菏泽市更新时间:2024-10-21 在线留言详细摘要: 主要功能:本设备主要采用机械臂搬运方式,通过对硅片腐蚀、漂洗等方式进行处理,从而达到一个用户要求的清洗效果。
产品型号:所在地:菏泽市更新时间:2024-10-20 在线留言详细摘要: 全自动槽式清洗机是一种用于半导体制造过程中的晶圆或器件清洗设备,采用槽式结构设计,结合全自动化控制,实现高效、可靠的清洗过程。
产品型号:所在地:菏泽市更新时间:2024-10-20 在线留言详细摘要: RCA半导体清洗机清洗工艺可以有效去除晶圆、硅片、半导体表面的细微颗粒物、金属残留、光刻胶残留物等问题。
产品型号:所在地:菏泽市更新时间:2024-10-19 在线留言您感兴趣的产品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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