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PS-200单靶磁控溅射镀膜机

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  • 公司名称磐石创新(江苏)电子装备有限公司
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  • 厂商性质其他
  • 更新时间2020/10/26 10:59:19
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磐石创新(江苏)电子装备有限公司是一家集半导体、微电子、新材料工艺设备研发、生产、销售于一体的高科技企业,专业为客户提供交钥匙工程以及整体生产线改造升级解决方案。总部于2018年从北京迁至江苏徐州,北京设有研发中心。一期在徐州工业园租用办公生产场地共14000平米,二期将启动规模为100亩土地的项目投建,2019年将启动项目投建,设立办公大楼、研发楼、标准厂房。 公司汇聚了众多相关行业、领域的高级管理和技术人才,具有自主研发、设计和制造工艺设备的能力。*与大专院校、研究院、用户企业等相关单位建立开放式技术合作,旨在不断解决工艺制备领域不断变化的市场需求、不断突破国外厂家*以来形成的技术壁垒。以灵活、创新的合作模式,打造高效的技术研发平台,不断提升产品核心技术。 主营产品:半导体工艺炉设备、真空类设备、清洗类设备、辅助配件、智能工厂生产线。
平面研磨机
PS-200单靶磁控溅射镀膜机
PS-200单靶磁控溅射镀膜机 产品信息

设备简介

PS-200单靶磁控溅射镀膜机主要由真空室、磁控靶、旋转基片架、真空系统、机架、电器控制等几大部分组成。可用来制备导电膜、金属膜、介质膜、半导体膜、绝缘膜、多层膜等。设备结构紧凑,占地面积小适合高校实验室及科研院所。

环境要求
供电:AC220V,功率≥20KVA
独立地线:<3Ω,从设备到地线连接建议采用≥10mm2 的扁平铜线
供水:流量≥10L/min 水温0~25℃
室温:<30℃
相对湿度:<75%
高纯氩气
室内无腐蚀易燃、易爆、有毒气体,无大的尘埃。

技术参数

真空室尺寸(内径X高)Ф200×200mm
极限真空2X10-4 Pa
恢复工作真空从大气抽至8X10-4 Pa,≤40min
工作真空≤6X10-1Pa
升压率≤8X10-1Pa/h
基片架旋转速度2~20rpm可调
靶-片距80~120mm
真空系统分子泵:FF63/80 型 62 L/S
机械泵:TRP-12型 3L/S
总功率20KVA
设备占地尺寸800X800
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