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CK500高真空多靶磁控溅射镀膜机

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  • 公司名称磐石创新(江苏)电子装备有限公司
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  • 厂商性质其他
  • 更新时间2020/10/26 11:06:44
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磐石创新(江苏)电子装备有限公司是一家集半导体、微电子、新材料工艺设备研发、生产、销售于一体的高科技企业,专业为客户提供交钥匙工程以及整体生产线改造升级解决方案。总部于2018年从北京迁至江苏徐州,北京设有研发中心。一期在徐州工业园租用办公生产场地共14000平米,二期将启动规模为100亩土地的项目投建,2019年将启动项目投建,设立办公大楼、研发楼、标准厂房。 公司汇聚了众多相关行业、领域的高级管理和技术人才,具有自主研发、设计和制造工艺设备的能力。*与大专院校、研究院、用户企业等相关单位建立开放式技术合作,旨在不断解决工艺制备领域不断变化的市场需求、不断突破国外厂家*以来形成的技术壁垒。以灵活、创新的合作模式,打造高效的技术研发平台,不断提升产品核心技术。 主营产品:半导体工艺炉设备、真空类设备、清洗类设备、辅助配件、智能工厂生产线。
平面研磨机
CK500高真空多靶磁控溅射镀膜机主要由镀膜腔室(500H430mm),永磁圆形平面靶,真空系统,旋转加热基片台,气路系统,电气控制及报警保护系统等组成。
CK500高真空多靶磁控溅射镀膜机 产品信息

CK500高真空多靶磁控溅射镀膜机主要由镀膜腔室(φ500×H430mm),永磁圆形平面靶,真空系统,旋转加热基片台,气路系统,电气控制及报警保护系统等组成。

设备特点及主要用途

CK500高真空多靶磁控溅射镀膜机主要由真空不锈钢腔室、四只3英寸圆形平面磁控靶;直流、射频溅射电源各一台。机械泵+分子泵高真空系统、旋转、加热基片台(室温至300±1℃可调可控)、机架、气路、水路、逻辑按钮控制及安全保护等组成。该设备选配电源可具备四靶共溅射功能,实现一机多用,可开发纳米级单层或多层的导电膜、金属膜、半导体膜、绝缘膜等。整机结构紧凑、占地小、操作方便、抽真空速度快。

技术参数

真空腔室

φ500×H430mm

真空系统

复合分子泵+直联旋片泵,气动真空阀门

真空极限

优于8.0×10-5Pa

抽速

从大气抽至6.0×10-3Pa≤15min

基片台

基片台尺寸:φ150mm

基片加热与旋转

衬底加热:室温~300℃,自动测温,PID控温;基片旋转:0-50转/分钟,可调可控

溅射靶规格

3英寸,四只

膜厚不均匀性

≤±5%

控制方式

手动按钮控制;(自动控制可选)

报警及保护

缺水报警,强制水冷,过流过压等异常情况自动执行保护功能

占地面积

长×宽: 1700×1600mm

关键词:真空阀门 PID
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