- 用途:步进式光刻可将掩模版图案缩小比例转移到待曝光的基板表面。
- 主要规格:可将掩模版图案同比例缩小5倍进行曝光;线宽:达500nm;可以配合使用多种型号的正光阻和负光阻;
- 适用晶片尺寸:样品尺寸不能大于6英寸。
- 可溅镀的材料:金属类Al、Cu、Gr、Co、Fe、Ni、Pt、Ag、Ti、Ta;合金类NiFe、CoFe、CoFeB、NiMn、FeMn、TbFeCo;氧化物类MgO等。
- 尺寸:170 cm*130 cm*180 cm
- 产品特点:
高精准度;
桌上型、体积小、内建计算机;
可客制化硬件与软件,以符合业界需求;
弹性适用于各种基底与形状。
- 应用领域:
中小规模集成电路;
半导体元器件;
声表面波器件的研制和生产;
- 详细参数: