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日前，德国通快集团完成了第200台EUV光刻机光源的发货。
EUV光刻机需求旺盛：通快、ASML业绩均增长
通快集团披露的财务数据显示，2021财年(2020年7月1日-2021年6月30日)，通快在EUV业务领域实现了5.3亿欧元的销售额，占总销售额的13.5%。通快预计，在2022财年EUV业务销售额将大幅增加到6亿欧元。目前，通快EUV业务领域已提供超过1500个工作岗位。
而全球EUV光刻机供应商不久前也披露了最新的财报。2021年ASML全年净销售额达186.11亿欧元，同比增长33.1%；净利润为58.83亿欧元，同比增长65.5%。其中，EUV光刻系统便贡献了63亿欧元的收入，较2020年增加了18亿欧元(增长40%)。
近年来，ASML销售的EUV光刻系统数量持续增长。从2015年第一台EUV光刻机出货，到2021年，ASML已成功交付42套EUV光刻系统。ASML表示，随着芯片制造工艺愈加先进，预计未来逻辑芯片、DRAM都将采用EUV技术制造，未来EUV光刻机的需求仍持续增长。在现有条件下，预计2022年将产出55台EUV光刻系统，EUV系统的收入也将增长25%。
三强联手 攻克EUV光刻最大挑战
EUV光刻是光刻机发展的第五代技术，前四代光刻机使用都属于深紫外光(准分子激光器产生UV激光束)，但在摩尔定律的推动下，半导体产业对于芯片的需求已经发展到5nm，甚至是3nm，浸入式光刻面临更为严峻的镜头孔径和材料挑战。可将最小工艺节点推进至5nm、3nm的第五代 EUV光刻机成了半导体行业不可或缺的砝码。
EUV光刻最大的挑战之一是如何产生波长极短的13.5nm的光，这需要将等离子体加热到接近22万摄氏度(几乎是太阳平均表面温度的40倍)。为实现这一点，荷兰ASML(光刻系统制造商)、德国Zeiss(镜头制造商)和德国Trumpf(光源制造商)紧密合作，通过多年努力最终研制出每秒可加工100多个晶圆的CO2激光系统，攻克了这一难题。这套系统的工作过程为：锡发生器每秒发射5万滴锡珠，通过真空室并被激光脉冲击中。当激光脉冲击中锡珠时，锡珠被电离并产生高强度的等离子体，同时发出波长为13.5nm的EUV光。随后收集器收集EUV光，并通过反射镜将其输送到光刻机上，对晶圆进行雕刻。
为了产生能使锡珠电离的激光脉冲，德国通快集团基于其二氧化碳激光技术开发了一套的激光放大器，其核心组件包括高功率种子模块、高功率放大链路、光束传输系统、光学平台FFA等。在五个放大阶段中，该设备可提升一个较弱的激光脉冲超过10000次，输出的激光脉冲超过3万瓦的平均脉冲功率，脉冲峰值功率可以高达为几兆瓦。
布局16年 通快成EUV光刻机光源独门供应商
实际上，通快在光刻激光发生系统上的投入已超过16年。早在2005年，通快便开始与准分子激光器厂商——美国Cymer公司合作，并在2013年ASML收购Cymer公司后继续保持合作关系。在这段时间里，通快为此专门成立了一个独立的子公司——通快半导体制造激光系统公司(TRUMPF Lasersystems for Semiconductor Manufacturing)，该子公司拥有超过500名员工，专门负责开发和生产EUV激光器。
2015年，ASML向通快订购了15台EUV光刻工具。自那以后，EUV光刻业务成了通快发展的重心之一，2016年至今的历年财报均强调EUV业务为通快集团业务作出了重大贡献。2017年，通快宣布成功收购Access Laser 85%的股权，后者建立早期专注研发CO2激光器，利用在定制激光器方面的强大知识，于2012年成为EUV市场的核心供应商。收购完成后，通快迅速加强EUV相关设备研发，一举成为ASML EUV光刻机光源的独门供应商。
凭借在 EUV 极紫外光刻方面的突出贡献，通快于2020年荣获了德国科学成就领域最高荣誉——德国未来奖，该奖项旨在表彰在技术、工程和生命科学领域取得的特殊成就。2020 年 11 月 25 日，德意志联邦总统弗兰克-瓦尔特-施泰因迈尔在柏林维尔蒂音乐厅向通快颁发了该奖项。
原标题：里程碑！通快第200台EUV光刻机光源已发货
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