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广东骏楠光子科技有限公司
DALI是由Aresis、CENN Nano center 和 LPKF 联合研发的高精度无掩膜纳米光刻机,是一款性能稳定,操作简单,对环境要求低,界面友好,零维护的桌面型高精度激光直写设备。其采用的是AOD声光调制器来控制激光进行高精度光刻,可以实现优于80nm平滑的边缘结构,100-150nm最小结构间距,400nm套刻精度,是实验室级微纳加工与器件制作专业设备。
DALI是由Aresis、CENN Nano center 和 LPKF 联合研发的高精度无掩膜纳米光刻机,是一款性能稳定,操作简单,对环境要求低,界面友好,零维护的桌面型高精度激光直写设备。其采用的是AOD声光调制器来控制激光进行高精度光刻,可以实现优于80nm平滑的边缘结构,100-150nm最小结构间距,400nm套刻精度,是实验室级微纳加工与器件制作专业设备。DALI凭借优异的性能,目前已广泛应用到微电子、微器件、纳米光学、材料科学、自旋电子学等研究领域。
*的AOD技术,定位分辨率优于0.1nm
A. 可以获得任意平滑、锐利的结构边缘
B. 可高分辨调整特征结构间的距离
C. 可以实现亚微米级精细结构的构建
主要特点:
# 最小特征结构小于1μm
# 针对I-line光刻胶进行优化(SU-8,AZ,……)
# 超快与超高精度定位,光斑定位分辨率<1nm
# 可构建高深宽比结构(可达10:1)
# 12nm-1μm光斑间距调节以获得超高平滑度
# 100-150nm最小结构间距
# 400nm套刻精度
# 适用于从CAD设计到各种结构的快捷构建
# 具备非平表面直写能力
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