详细摘要： BOE湿法刻蚀机是半导体制造中用于晶圆表面处理的关键设备，通过缓冲氧化物刻蚀液（BOE，HF与NH₄F混合液）精准去除二氧化硅（SiO₂）或氮化硅（SiNₓ）薄...
产品型号：所在地：苏州市更新时间：2025-04-30 在线留言PLC 工控机 嵌入式系统 人机界面 工业以太网 现场总线 变频器 机器视觉 DCS PAC/PLMC SCADA 工业软件 ICS信息安全 应用方案 无线通讯
苏州芯矽电子科技有限公司
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详细摘要： BOE湿法刻蚀机是半导体制造中用于晶圆表面处理的关键设备，通过缓冲氧化物刻蚀液（BOE，HF与NH₄F混合液）精准去除二氧化硅（SiO₂）或氮化硅（SiNₓ）薄...
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详细摘要： RCA清洗机专为半导体、光伏及精密电子领域设计，通过标准化SC-1（NH₄OH/H₂O₂）、SC-2（HCl/H₂O₂）及去离子水冲洗工艺，实现晶圆表面有机物、...
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详细摘要： 光罩清洗机是半导体制造中用于清洁光罩（掩膜版）的关键设备，通过物理或化学方式去除表面污染物（如光刻胶残留、颗粒、有机物等），确保光罩图案的高精度和洁净度。设备通...
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详细摘要： 一种专用于硅酸材料表面蚀刻加工的设备，通过化学或物理作用实现高精度蚀刻。它广泛应用于半导体、光伏、微电子等领域，用于制造集成电路、太阳能电池等精密器件。设备具备...
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详细摘要： 化学槽清洗机是一款全自动湿法清洗设备，专为半导体、光伏及电子制造领域的高精密部件设计，通过化学腐蚀与物理冲洗结合的方式，高效去除金属颗粒、有机物残留及氧化层。设...
产品型号：所在地：苏州市更新时间：2025-04-29 在线留言
详细摘要： EPI Quartz Cleaner是一款专为半导体外延工艺设计的全自动石英部件清洗设备，通过湿法腐蚀技术高效去除炉管、晶舟等石英配件表面的颗粒、油污及化学残留...
产品型号：所在地：苏州市更新时间：2025-04-29 在线留言
详细摘要： 全自动BOE腐蚀机，即全自动氧化层腐蚀清洗设备，是半导体制造中的关键工艺设备。它利用缓冲氧化物刻蚀液（BOE）对晶圆表面的氧化层进行精确、高效的腐蚀清洗，以去除...
产品型号：所在地：苏州市更新时间：2025-04-29 在线留言
详细摘要： 半自动槽式清洗机是一款结合人工操作与自动化功能的清洗设备，适用于中小型清洗需求。其核心为槽式结构，通常采用不锈钢材质，具备耐腐蚀、耐高温特性，确保长期使用稳定性...
产品型号：所在地：苏州市更新时间：2025-04-28 在线留言
详细摘要： 全自动槽式清洗机，高效清洗的得力助手。采用槽式设计，搭配全自动运行模式，操作简便。其具备强大的清洗能力，能快速去除各类污渍。材质优良，坚固耐用且耐腐蚀。通过清洗...
产品型号：所在地：苏州市更新时间：2025-04-28 在线留言您感兴趣的产品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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