行业产品

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苏州芯矽电子科技有限公司


经营模式:生产厂家

商铺产品:21条

所在地区:江苏苏州市

联系人:陈经理 (经理)

  • BOE湿法刻蚀机

    详细摘要: BOE湿法刻蚀机是半导体制造中用于晶圆表面处理的关键设备,通过缓冲氧化物刻蚀液(BOE,HF与NH₄F混合液)精准去除二氧化硅(SiO₂)或氮化硅(SiNₓ)薄...

    产品型号:所在地:苏州市更新时间:2025-04-30 在线留言

  • 高效清洁 RCA清洗机

    详细摘要: RCA清洗机专为半导体、光伏及精密电子领域设计,通过标准化SC-1(NH₄OH/H₂O₂)、SC-2(HCl/H₂O₂)及去离子水冲洗工艺,实现晶圆表面有机物、...

    产品型号:所在地:苏州市更新时间:2025-04-30 在线留言

  • 晶圆化学镀设备

    详细摘要: 晶圆化学镀设备专为半导体封装与TSV(硅通孔)工艺设计,通过化学置换或电镀技术实现晶圆级金属化镀层(如铜、镍、银)。设备采用高精度旋转喷淋系统,搭配脉冲电镀电源...

    产品型号:所在地:苏州市更新时间:2025-04-30 在线留言

  • 半导体封装双层充氮烤箱

    详细摘要: 半导体封装双层充氮烤箱专为高精度芯片封装工艺设计,采用双层腔体结构与充氮氛围保护,确保焊接或固化过程中的零氧化、低缺陷率。设备配备独立控温系统,支持上下两层独立...

    产品型号:所在地:苏州市更新时间:2025-04-30 在线留言

  • 高精度自动供液系统CDS

    详细摘要: 高精度自动供液系统CDS是一款专为半导体、医疗及实验室场景设计的智能化设备,通过高精度泵与流量控制技术实现微升级液体精准分配(误差<±0.5%),支持...

    产品型号:所在地:苏州市更新时间:2025-04-30 在线留言

  • SPM清洗机

    详细摘要: SPM清洗机是半导体产业链的核心设备之一,其性能直接影响芯片良品率。选择时需结合制程需求、产能及预算,优先选择具备智能化控制和干法清洗技术(如等离子辅助)的设备...

    产品型号:所在地:苏州市更新时间:2025-04-30 在线留言

  • 晶圆预清洗机

    详细摘要: 晶圆预清洗机是半导体制造中用于晶圆表面清洁的关键设备,主要用于去除光刻、蚀刻或沉积工艺后残留的污染物(如光刻胶、氧化物、颗粒、有机物等),确保晶圆表面达到高洁净...

    产品型号:所在地:苏州市更新时间:2025-04-30 在线留言

  • 光罩清洗机

    详细摘要: 光罩清洗机是半导体制造中用于清洁光罩(掩膜版)的关键设备,通过物理或化学方式去除表面污染物(如光刻胶残留、颗粒、有机物等),确保光罩图案的高精度和洁净度。设备通...

    产品型号:所在地:苏州市更新时间:2025-04-30 在线留言

  • 全自动最终清洗机 硅片晶圆清洗

    详细摘要: 全自动最终清洗机是一种高效、智能化的清洗设备,主要用于去除产品表面残留的污染物、油脂、微粒等,确保产品达到洁净度要求。其采用自动化控制系统,可实现清洗、漂洗、干...

    产品型号:所在地:苏州市更新时间:2025-04-30 在线留言

  • 半导体行业应用 硅酸表面蚀刻机

    详细摘要: 一种专用于硅酸材料表面蚀刻加工的设备,通过化学或物理作用实现高精度蚀刻。它广泛应用于半导体、光伏、微电子等领域,用于制造集成电路、太阳能电池等精密器件。设备具备...

    产品型号:所在地:苏州市更新时间:2025-04-30 在线留言

  • 化学槽清洗机

    详细摘要: 化学槽清洗机是一款全自动湿法清洗设备,专为半导体、光伏及电子制造领域的高精密部件设计,通过化学腐蚀与物理冲洗结合的方式,高效去除金属颗粒、有机物残留及氧化层。设...

    产品型号:所在地:苏州市更新时间:2025-04-29 在线留言

  • EPI Quartz Cleaner 湿法清洗设备

    详细摘要: EPI Quartz Cleaner是一款专为半导体外延工艺设计的全自动石英部件清洗设备,通过湿法腐蚀技术高效去除炉管、晶舟等石英配件表面的颗粒、油污及化学残留...

    产品型号:所在地:苏州市更新时间:2025-04-29 在线留言

  • EPI外延清洗机

    详细摘要: EPI外延清洗机是半导体制造中用于清洁外延片表面的关键设备,通过化学或物理方法去除污染物,确保外延层性能。其核心功能包括喷淋、超声波或旋转清洗技术,可高效清除颗...

    产品型号:所在地:苏州市更新时间:2025-04-29 在线留言

  • CMP预清洗机

    详细摘要: CMP预清洗机是半导体制造中化学机械抛光(CMP)前的关键设备,用于去除晶圆表面的颗粒、有机物及氧化层等污染物。通过兆声波清洗、化学腐蚀(如DHF、SC1溶液)...

    产品型号:所在地:苏州市更新时间:2025-04-29 在线留言

  • 全自动BOE腐蚀机 腐蚀清洗机

    详细摘要: 全自动BOE腐蚀机,即全自动氧化层腐蚀清洗设备,是半导体制造中的关键工艺设备。它利用缓冲氧化物刻蚀液(BOE)对晶圆表面的氧化层进行精确、高效的腐蚀清洗,以去除...

    产品型号:所在地:苏州市更新时间:2025-04-29 在线留言

  • 立式炉管清洗机

    详细摘要: 立式炉管清洗机是专为垂直管道清洁设计的高效设备,采用立式结构,便于深入清洗长管道或复杂管路系统。其核心功能是通过高压水流、化学清洗或机械刷洗等方式,快速清除炉管...

    产品型号:所在地:苏州市更新时间:2025-04-28 在线留言

  • 卧式炉管清洗机

    详细摘要: 卧式炉管清洗机是专为清洁炉管设计的设备,采用卧式结构,便于操作与维护。其通过高压水流、化学清洗或机械刷洗等方式,有效去除炉管内的积碳、油污及杂质,恢复管道通畅与...

    产品型号:所在地:苏州市更新时间:2025-04-28 在线留言

  • 半自动槽式清洗机

    详细摘要: 半自动槽式清洗机是一款结合人工操作与自动化功能的清洗设备,适用于中小型清洗需求。其核心为槽式结构,通常采用不锈钢材质,具备耐腐蚀、耐高温特性,确保长期使用稳定性...

    产品型号:所在地:苏州市更新时间:2025-04-28 在线留言

  • 全自动槽式清洗机

    详细摘要: 全自动槽式清洗机,高效清洗的得力助手。采用槽式设计,搭配全自动运行模式,操作简便。其具备强大的清洗能力,能快速去除各类污渍。材质优良,坚固耐用且耐腐蚀。通过清洗...

    产品型号:所在地:苏州市更新时间:2025-04-28 在线留言

  • 单片式最终清洗机

    详细摘要: 单片式最终清洗机是半导体制造后道工艺中的核心设备,专为硅片刻蚀后或出货前的洁净度保障设计。其通过模块化槽体(如DHF去氧化层、SC-2螯合金属、SPM分解有机物...

    产品型号:所在地:苏州市更新时间:2025-04-27 在线留言

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