详细摘要: BOE湿法刻蚀机是半导体制造中用于晶圆表面处理的关键设备,通过缓冲氧化物刻蚀液(BOE,HF与NH₄F混合液)精准去除二氧化硅(SiO₂)或氮化硅(SiNₓ)薄...
产品型号:所在地:苏州市更新时间:2025-04-30 在线留言PLC 工控机 嵌入式系统 人机界面 工业以太网 现场总线 变频器 机器视觉 DCS PAC/PLMC SCADA 工业软件 ICS信息安全 应用方案 无线通讯
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详细摘要: BOE湿法刻蚀机是半导体制造中用于晶圆表面处理的关键设备,通过缓冲氧化物刻蚀液(BOE,HF与NH₄F混合液)精准去除二氧化硅(SiO₂)或氮化硅(SiNₓ)薄...
产品型号:所在地:苏州市更新时间:2025-04-30 在线留言详细摘要: RCA清洗机专为半导体、光伏及精密电子领域设计,通过标准化SC-1(NH₄OH/H₂O₂)、SC-2(HCl/H₂O₂)及去离子水冲洗工艺,实现晶圆表面有机物、...
产品型号:所在地:苏州市更新时间:2025-04-30 在线留言详细摘要: 光罩清洗机是半导体制造中用于清洁光罩(掩膜版)的关键设备,通过物理或化学方式去除表面污染物(如光刻胶残留、颗粒、有机物等),确保光罩图案的高精度和洁净度。设备通...
产品型号:所在地:苏州市更新时间:2025-04-30 在线留言详细摘要: 一种专用于硅酸材料表面蚀刻加工的设备,通过化学或物理作用实现高精度蚀刻。它广泛应用于半导体、光伏、微电子等领域,用于制造集成电路、太阳能电池等精密器件。设备具备...
产品型号:所在地:苏州市更新时间:2025-04-30 在线留言详细摘要: 化学槽清洗机是一款全自动湿法清洗设备,专为半导体、光伏及电子制造领域的高精密部件设计,通过化学腐蚀与物理冲洗结合的方式,高效去除金属颗粒、有机物残留及氧化层。设...
产品型号:所在地:苏州市更新时间:2025-04-29 在线留言详细摘要: EPI Quartz Cleaner是一款专为半导体外延工艺设计的全自动石英部件清洗设备,通过湿法腐蚀技术高效去除炉管、晶舟等石英配件表面的颗粒、油污及化学残留...
产品型号:所在地:苏州市更新时间:2025-04-29 在线留言详细摘要: 全自动BOE腐蚀机,即全自动氧化层腐蚀清洗设备,是半导体制造中的关键工艺设备。它利用缓冲氧化物刻蚀液(BOE)对晶圆表面的氧化层进行精确、高效的腐蚀清洗,以去除...
产品型号:所在地:苏州市更新时间:2025-04-29 在线留言详细摘要: 半自动槽式清洗机是一款结合人工操作与自动化功能的清洗设备,适用于中小型清洗需求。其核心为槽式结构,通常采用不锈钢材质,具备耐腐蚀、耐高温特性,确保长期使用稳定性...
产品型号:所在地:苏州市更新时间:2025-04-28 在线留言详细摘要: 全自动槽式清洗机,高效清洗的得力助手。采用槽式设计,搭配全自动运行模式,操作简便。其具备强大的清洗能力,能快速去除各类污渍。材质优良,坚固耐用且耐腐蚀。通过清洗...
产品型号:所在地:苏州市更新时间:2025-04-28 在线留言您感兴趣的产品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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主营产品:专业半导体湿法设备制造公司,主要提供实验室研发级到全自动量产级槽式清洗机,单片清洗机,高纯化学品/研磨液供应回收系统及工程
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