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狭缝式涂布机

参考价 ¥ 5000000
订货量 ≥2
具体成交价以合同协议为准
  • 公司名称爱姆加电子设备有限公司
  • 品       牌其他品牌
  • 型       号M+4500
  • 所  在  地西安市
  • 厂商性质生产厂家
  • 更新时间2024/3/1 9:15:34
  • 访问次数105
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M+公司简介

爱姆加电子设备有限公司从事半导体工艺设备的设计、生产。产品系列有:匀胶机、显影机、半自动匀胶显影机 、全自动匀胶显影机、全自动显影机、半导体喷胶机、槽式(Wet Bench)及单片(Single Wafer)蚀刻_剥离_清洗设备、清洗甩干机、热板烘烤(Hot Plate)、自动涂胶显影机、自动砂轮划片切割等设备;以及开发研制、升级换代、维修服务。




半导体工艺生产设备
一、产品使用范围:

• 弯月牙涂胶基板尺寸:1400 mm×420 mm×200 mm);

• 液体胶刀的有效尺寸
狭缝式涂布机 产品信息

     狭缝式涂布机是一种用于在表面上涂布薄膜、涂料或液体材料的设备。它通常由一个具有狭缝形状的喷嘴或涂布头部组成,通过控制狭缝的宽度和涂布材料的流量来实现精确的涂布过程。这种涂布机在工业生产中广泛应用,特别是在印刷、涂装、电子制造和其他需要精密涂布的领域。狭缝式涂布机的工作原理是将涂布材料通过泵送或喷射系统输送至狭缝喷嘴,然后通过调节狭缝的宽度和涂布速度来控制涂布厚度。这种精确的控制使得狭缝式涂布机非常适合需要高质量、均匀涂布的应用。这种涂布技术常用于制造平板显示器、光伏电池、柔性电子设备等高科技产品的生产过程中。狭缝式涂布机的优势包括高精度、高效率、节省材料和可在各种基材上实现均匀涂布。总的来说,狭缝式涂布机在现代工业中扮演着重要的角色,为许多领域提供了精确、可控的涂布解决方案。

 在半导体制造领域,狭缝式涂布技术有着重要的应用,特别是在制备薄膜和涂覆材料的过程中。以下是一些狭缝式涂布在半导体行业中的主要应用:

光刻胶涂覆: 在半导体制造中,光刻是一项关键的工艺,用于定义芯片上的图形和结构。狭缝式涂布机常用于涂覆光刻胶在硅片表面,确保光刻胶均匀覆盖并形成一致的薄膜。这是为了保证后续曝光、显影等步骤能够准确地传递芯片设计的图案。

化学机械抛光(CMP)涂覆: CMP是半导体工艺中用于平坦化硅片表面的关键步骤。在CMP涂覆中,狭缝式涂布机可用于将腐蚀液体(slurry)均匀涂布在硅片表面,以便在抛光过程中实现材料的均匀去除,从而获得平整的表面。

薄膜涂布: 制造半导体器件通常涉及在硅片上涂覆不同的薄膜层,例如氧化物、金属薄膜等。狭缝式涂布机可确保这些薄膜在硅片表面均匀分布,从而提高器件的性能和可靠性。

电介质涂布: 在半导体器件中,电介质层通常用于隔离不同电路元件或作为绝缘材料。狭缝式涂布机可以精确地涂布这些电介质材料,确保其厚度和均匀性,从而维持器件的电学性能。

 总的来说,狭缝式涂布技术在半导体制造中扮演着关键的角色,为各种工艺步骤提供了高精度和均匀性的涂覆解决方案,从而确保半导体器件的质量和性能。


一、产品使用范围:

• 弯月牙涂胶基板尺寸:1400 mm×420 mm×200 mm);

• 液体胶刀的有效尺寸为:420mm:

二、设备概述:此胶狭缝系统包括供胶系统、精密胶刀、平面度调节机构、胶盒移动等部件组成。

• 供胶系统:伺服电机带动磁力泵供给胶刀,回流过滤循环供给,胶泵采购进口压力流量可调的磁力泵。

•  精密胶刀:胶刀出液狭缝可调,可适应100CP-200CP的光阻药液。同时出液的高度(0.15-0.25mm)通过调整泵的供压力及狭缝配合来调

• 面度调节机构:胶刀与胶盒的平行度可通过胶盒内的螺钉进行调平,胶刀与连接平面也可调整,胶刀与基板的平面通过机械方式也可调整。

• 利用电磁阀及气缸来实现胶盒盖的上下、左右方向的移动。 三、设备控制设计:

• 供泵系统胶泵为伺服电机,胶泵的压力、流速通过调节电机的转速控制。

•  胶盒盖通过气缸控制+电磁阀(气缸都装有上下,左右位置检测传感器)。

•  基板移动加有接近开关(主要用于检测基板是否移过)。


芯片无尘室的超净服介绍

在匀胶显影设备净化间,工作人员通常需要穿着超净服以确保产品的质量和纯度,保证实验数据的精确。这种服装的设计主要是为了防止工作人员的身体表面或呼出的空气对微型电子元件的制造环境产生污染。超净服通常被称为Cleanroom Suit"或者"Bunny Suit",做半导体制造的小伙伴应该对超净服比较熟悉,但是你确定自己懂它吗?

超净服的历史——超净服,是由英特尔Fab工厂提出,其历史可以追溯到1968年。当时的芯片无尘室内工作人员穿着自己的衣物,并且环境并非无菌的。甚至有人会把比萨饼放在扩散炉上烘烤加热。到了1971年,Intel的Fab 2工厂要求员工穿着专用罩衣,但不需要头套或护腿。员工可以把它们带回家洗,这种做法在常规清洁度上可能足够,但却无法防止小颗粒污染微芯片。更严格的清洁服装协议始于1973年,Intel的Fab3工厂普及了我们目前熟悉的现代超净服,并在1980年成为Intel公司的标准,随后流行开来。

超净服的材质——常见材质为聚酯。超净服所用的聚酯材料是一种常见的聚合物,主要由聚酯纤维制成。聚酯是一种大分子聚合物,由酯基连接的单体重复单元组成。酯基是一个化学功能团,由一个羰基(C=O)和一个氧原子(-0-)组成,形式为 -C00-。聚酯是聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)。

以下是聚酯材料的一些主要特性:

1.耐磨:聚酯是一种非常耐磨的材料,其强度比自然纤维高。

2.耐化学品:聚酯对大多数常见的工业化学品具有很好的抵抗力,包括酸,碱和有机溶剂。这使得它在需要接触化学品的环境中非常有用。

3.易洗:聚酯纤维的另一个优点是它易于清洗,可以在机器中洗涤,且不易皱。此外,它可以在高温下清洗,这对于保持超净服的洁净至关重要。

4.防静电:聚酯本身可能会产生静电,但是超净服的聚酯材料通常会掺入防静电纤维或者涂覆有防静电剂,以降低静电积累。超净服的静电如何导走的?

超净服防止静电积聚的一种重要方式是通过地面接地系统,将人体产生的静电导入大地。在匀胶显影设备生产车间,员工通常需要穿戴特别的防静电鞋或鞋套。这些鞋子或鞋套是由导电材料制成的,可以将人体产生的静电从人体导入到地面。#净化间的匀胶显影设备#半自动匀胶机#匀胶显影工艺#爱姆加半导体设备




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