详细摘要: 產品簡介: 对于无法正常正面对位之制程,可以采用背面对位方式来对位, 双面对准曝光机包含有正面对位及背面对位两套对位影像系统。
产品型号:所在地:更新时间:2023-06-24 在线留言PLC 工控机 嵌入式系统 人机界面 工业以太网 现场总线 变频器 机器视觉 DCS PAC/PLMC SCADA 工业软件 ICS信息安全 无线通讯 机箱机柜
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详细摘要: 產品簡介: 对于无法正常正面对位之制程,可以采用背面对位方式来对位, 双面对准曝光机包含有正面对位及背面对位两套对位影像系统。
产品型号:所在地:更新时间:2023-06-24 在线留言详细摘要: 產品簡介: 双面曝光曝光机采用上及下两组曝光源,欲曝光机基板夹于上下光罩之间同时曝基板上下两面,对双面制程之基板之产能, 能两倍于单面曝光制程。
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