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双面对准曝光机

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更新时间：2023-06-24 11:48:00浏览次数：131次

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产品简介

產品簡介：对于无法正常正面对位之制程，可以采用背面对位方式来对位，双面对准曝光机包含有正面对位及背面对位两套对位影像系统。

详细介绍

双面对准曝光机

双面对准单面曝光系统

產品簡介：

对于无法正常正面对位之制程，可以采用背面对位方式来对位，双面对准曝光机包含有正面对位及背面对位两套对位影像系统。

曝光燈源

紫外光源机型有功率 : 350W，500W，1000W，2000W，3500W，5000W 。

曝光光源尺寸 : 4″，6″，8″，10″，12″ 。

波长 : NUV (含365nm， 400nm，435nm) 光源平行半角 : 1.5~2.5度 (依出光口径)。

均匀度 : +-3~5% ，高压汞灯泡及电源供应器。

影像系統

正面对准影像系统采用可变倍率镜头方便对准操作，标准倍率50X-300X，

配合CCD影像系统，19″ LCD萤幕打光有LED同轴光或环形光，观测的两点间距4cm-15cm ，

可选配镜头扫描台以快速移动镜头，背面对准影像系统采用多段倍率镜头或固定倍率镜头，

双CCD摄影机影像系统，切换使用上影像LCD萤幕LED同轴打光，两组背对准影像处理器，

镜头前后左右上下微调约10mm，可加装破片对位用菱镜组。

曝光對準台

光罩真空吸盘 : 上吸式或下吸式 4″， 5″，6″，7″， 9″ 。

晶圆真空 Chuck : 2″， 4″，6″，8″ 圆形或方形，具光罩晶圆水平校正功能。

曝光模式有 : 真空接触式与近接式，可调整真空吸附力大小， X，Y轴调整10mm，调整解析度2um， Z轴可调整5mm，千分表解析度1um，上光罩开启以取放基板。

操作系統

采PLC半自动操作系统，可切换手动及自动模式。

操作流程 : 置基板(按键)上光罩关闭，镜头移入做对准动作， (按键)上光罩下压，镜头移出灯源移入曝光(计时)，灯源移出取，上光罩开启，取基板。

曝光快门控制 : 计时器控制 0.1-999秒或能量控制 : 0.1~9000mJ/cm2。

機座

具四个防震气垫，具调整脚及移动轮，铝挤型机架加铝板及黄色PVC抗静电包覆机台，开数个操作与维修门窗及视窗。

性能

产量依对位精度及曝光时间而不同可达每分钟曝三片，

采真空接触曝光图形解析可达1um以内(正光阻厚1um)，

采近接式曝光依晶圆与光罩间距设定约在3~5um。

关键词：CCD 处理器操作系统计时器

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