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全手动光罩对准曝光机

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更新时间：2023-06-22 19:44:36浏览次数：122次

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产品简介

產品簡介：全手动操作，每一个动作可单独操作，适合实验室研究使用或量产前制程开发使用。

详细介绍

全手动光罩对准曝光机

适合研究单位使用

產品簡介：

全手动操作，每一个动作可单独操作，适合实验室研究使用或量产前制程开发使用。

曝光燈源

紫外光源机型有功率 : 350W，500W，1000W，2000W 。

曝光光源尺寸 : 4″，6″，8″，10″，12″，圆或方，波长: NUV(含365nm， 405nm，435nm) 。

光源平行半角 : 1.5~2.5度(依出光口径) 均匀度: +-3~5%，

高压汞灯泡及电源供应器。

影像系統

采用可变倍率镜头方便对准操作，标准总倍率50X-300X， CCD摄影机影像系统，

19吋 LCD萤幕打光有LED同轴光或环形光，观测的两点间距4cm-20cm，

可加装转折镜到更小间距，可加装镜头扫描台以快速移动镜头，可选配背面对准影像系统。

曝光台

光罩真空吸盘 : 上吸式或下吸式 4″，5″， 6″， 7″， 9″ 。

晶圆真空吸盘 : 2″， 4″， 5″， 6″，8″，圆或方，具光罩晶圆水平校正功能。

曝光模式有真空接触式与近接式，可调整真空吸附力大小 X，Y轴调整10mm，调整灵敏度1um， Z轴可调整5mm，

千分表解析度1um，上光罩以手开启以取放基板。

操作系統

全手动操作系统，每一动作均需手动操作。

操作流程 : 置基板，手动关下光罩吸盘，镜头移入做对准动作，chuck上移至曝光位置，镜头移出灯源移入曝光(计时)，灯源移出，光罩吸盘开启，取出基板，曝光计时器时间设定:0.1-999秒。

機座

具四个防震气垫，具调整脚及移动轮，不锈钢支架及盘面，铝合金桌面及肋板，CDA之调整真空之显示，电源输出入等。

性能

采真空接触曝光图形解析可达1um以内(正光阻厚1um)，采近接式曝光依晶圆与光罩间距设定约在3~5um。

关键词：CCD 操作系统计时器

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