详细摘要： 匀胶机-针对实验室使用匀胶机是在高速旋转的基片上，滴注各类胶液，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上的设备，膜的厚度取决于匀胶机的转速和溶胶的黏度
产品型号：M+150-M所在地：西安市更新时间：2024-01-22 在线留言PLC 工控机 嵌入式系统 人机界面 工业以太网 现场总线 变频器 机器视觉 DCS PAC/PLMC SCADA 工业软件 ICS信息安全 应用方案 无线通讯
陕西爱姆加电子设备有限公司
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详细摘要： 匀胶机-针对实验室使用匀胶机是在高速旋转的基片上，滴注各类胶液，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上的设备，膜的厚度取决于匀胶机的转速和溶胶的黏度
产品型号：M+150-M所在地：西安市更新时间：2024-01-22 在线留言
详细摘要： 型号：Ｍ+-SM300×300喷雾式涂布机主要用于开发研究和各种半导体器件（MEMS）和微机械。对应于超厚膜涂层，它是很难通过常规的旋涂机微粒的化学溶...
产品型号：M+200S所在地：西安市更新时间：2023-12-11 在线留言
详细摘要： 自动匀胶显影机使用范围：pumping封装、3D-TSV、MEMS、OLED等领域PR工艺涂胶胶显影；产能：预估100wafer/H;产品种类：晶片如硅、玻璃片...
产品型号：M+300所在地：西安市更新时间：2023-12-29 在线留言
详细摘要： 主要特点：线性布局，自动传片，自动完成去胶工艺。晶圆尺寸根据用户需求。腔体共有三层，每层都有单独的药液排放 循环功能。清洗多种金属颗粒和有机物残留。药液在循环中...
产品型号：M+100-L所在地：西安市更新时间：2023-12-29 在线留言
详细摘要： 设备实现2“-12“晶圆兼容涂胶、显影模块自带暂停/恢复功能同片盒内每个硅片可分别制定工艺运行设备和各工位全封闭设计，不受外环境干扰可独立增加层流罩，提升小环境...
产品型号：M+100CD所在地：西安市更新时间：2025-03-25 在线留言
详细摘要： 半自动涂胶显影机 型号：M+200Ｄ适用用圆片尺寸: 2"、3"、4"；以及5x5,10x10,25x25方片工艺工步：放置圆片（可辅助定中心）启动防溅罩到上...
产品型号：M+100C-M所在地：西安市更新时间：2025-03-28 在线留言
详细摘要： 超大尺寸匀胶设备 M+/1500-Ｃ，主要用于完成基片光阻涂布工艺。设备可分别配置主轴旋转装置、 光阻供液系统（腔体清洗液）、排风系统、上料装置、控制部份等；设...
产品型号：M+1200所在地：西安市更新时间：2024-07-22 在线留言
详细摘要： 一、主要技术规格：1. 适应2〞~8〞晶圆烘烤2. 热板温度： 60℃-300℃（温度为150℃以上请勿合盖）3. 温度均匀性： ±1℃（Φ...
产品型号：M+HP200所在地：西安市更新时间：2023-12-20 在线留言
详细摘要： 一、主要技术规格：1. 适应2〞~8〞晶圆烘烤2. 热板温度： 60℃-300℃（温度为150℃以上请勿合盖）3. 温度均匀性： ±1℃（Φ...
产品型号：M+HP200-1所在地：西安市更新时间：2025-04-17 在线留言
详细摘要： 半导体制冷技术已经成为了一种具有广泛应用前景的技术。从微型电子设备到大型冷冻仓库，半导体制冷技术都发挥着的作用。那么，半导体制冷原理究竟是什么呢
产品型号：M+100HC所在地：西安市更新时间：2023-12-28 在线留言
详细摘要： 量子点是一种通常仅由几千个原子组成的晶体，就大小而言，它与足球的比例就相当于足球与地球的比例。这么小的粒子，我们肉眼是看不见的，但它们却有着非常特殊的性质。
产品型号：M+S200-S所在地：西安市更新时间：2024-01-19 在线留言
详细摘要： 方形基片匀胶机，型号M+/C450-40，主要用于完成方形基片（全息光栅涂胶机）、大尺寸玻璃片匀胶机、方形基片显影机等匀胶、显影、清洗工艺玻璃片尺寸wafer ...
产品型号：M+D450所在地：西安市更新时间：2023-12-28 在线留言您感兴趣的产品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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